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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116958008B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210356724.4，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质是由马赫;吴晓斌;韩晓泉;季艺雯;谭芳蕊;王魁波;沙鹏飞;李慧;罗艳;谢婉露;马翔宇;孙家政;户权设计研发完成，并于2022-04-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了：本公开涉及一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质，所述方法包括：采集掩模版相位型缺陷的光场反射幅值分布，将所述光场反射幅值分布转换为掩模缺陷的空间像样本数据；将所述空间像样本数据按照预设比例分为空间像样本数据训练集、空间像样本数据测试集；对所述空间像样本数据训练集进行缺陷类型标定；对所述缺陷类型标定的结果和所述空间像样本数据训练集的对应关系进行训练，以搭建缺陷识别模型；将所述空间像样本数据测试集输入所述缺陷识别模型得到缺陷识别结果。

本发明授权一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种掩模版相位型缺陷识别方法，其特征在于，包括： 采集掩模版相位型缺陷的光场反射幅值分布，将所述光场反射幅值分布转换为掩模缺陷的空间像样本数据；所述采集掩模版相位型缺陷的光场反射幅值分布具体包括：采集器采集工作光源经过照明元件，照射到待检测掩模，再经过波带片成像放大后的光场反射光路，以获得带有掩模缺陷特征的光场反射强度幅值分布； 将所述空间像样本数据按照预设比例分为空间像样本数据训练集、空间像样本数据测试集； 对所述空间像样本数据进行缺陷类型标定； 对所述缺陷类型标定的结果和所述空间像样本数据训练集的对应关系进行训练，以搭建缺陷识别模型； 将所述空间像样本数据测试集输入所述缺陷识别模型得到缺陷识别结果； 其中，所述缺陷识别模型为由五层卷积层、五层池化层、至少三层全链接层以及softmax层构成的卷积神经网络；所述卷积层的卷积核大小为3×3；所述池化层为平均池化； 其中，第三层卷积层后的池化层为池化窗口为3×3，步长为3的平均池化；其余四层卷积层后的池化层均为池化窗口为2×2，步长为2的平均池化； 所述至少三层全链接层包括：缺陷种类全链接层、缺陷半高峰宽全链接层以及缺陷峰值高度全链接层；在所述缺陷种类全链接层后加入Softmax函数作为缺陷种类的回归函数； 使用缺陷半高峰宽全链接层作为缺陷半高峰宽的回归函数；缺陷峰值高度全链接层作为缺陷峰值高度的回归函数。

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