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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利表面处理气相法二氧化硅颗粒的制造方法、表面处理气相法二氧化硅颗粒、及静电图像显影用调色剂外部添加剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116888072B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180093802.X，技术领域涉及：C01B33/18；该发明授权表面处理气相法二氧化硅颗粒的制造方法、表面处理气相法二氧化硅颗粒、及静电图像显影用调色剂外部添加剂是由松村和之;西峯正进;伊藤雄佑;八木寿;中村勉;坂诘功晃设计研发完成，并于2021-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本表面处理气相法二氧化硅颗粒的制造方法、表面处理气相法二氧化硅颗粒、及静电图像显影用调色剂外部添加剂在说明书摘要公布了：本发明为一种表面处理气相法二氧化硅颗粒的制造方法，其特征在于，该制造方法具有以下工序：A1：向原料气相法二氧化硅颗粒中添加1,3‑二乙烯基‑1,1,3,3‑四甲基二硅氮烷，从而向所述原料气相法二氧化硅颗粒的表面引入乙烯基二甲基甲硅烷基，得到预处理二氧化硅颗粒的工序，及A2：向所述预处理二氧化硅颗粒中添加六甲基二硅氮烷，从而向所述预处理二氧化硅颗粒的表面引入三甲基甲硅烷基，得到表面处理气相法二氧化硅颗粒的工序。由此，能够提供一种粗大凝聚颗粒少、在添加于调色剂中时能够赋予良好的流动性的表面处理气相法二氧化硅颗粒及其制造方法、及由该表面处理气相法二氧化硅颗粒组成的调色剂用外部添加剂。

本发明授权表面处理气相法二氧化硅颗粒的制造方法、表面处理气相法二氧化硅颗粒、及静电图像显影用调色剂外部添加剂在权利要求书中公布了：1.一种表面处理气相法二氧化硅颗粒的制造方法，其特征在于，该制造方法具有以下工序： A1：向原料气相法二氧化硅颗粒中添加1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氮烷，从而向所述原料气相法二氧化硅颗粒的表面引入乙烯基二甲基甲硅烷基，得到预处理二氧化硅颗粒的工序，及 A2：向所述预处理二氧化硅颗粒中添加六甲基二硅氮烷，从而向所述预处理二氧化硅颗粒的表面引入三甲基甲硅烷基，得到表面处理气相法二氧化硅颗粒的工序， 其中，所述表面处理气相法二氧化硅颗粒的BET比表面积为30m2g以上且小于400m2g， 所述表面处理气相法二氧化硅颗粒的根据使用激光衍射法得到的体积标准粒度分布而求出的1.5μm以上的颗粒的比例小于10%， 所述表面处理气相法二氧化硅颗粒的甲醇疏水度为68%以上且78%以下，并且 在将1质量份的所述表面处理气相法二氧化硅颗粒与100质量份的体积中值粒径为5~8μm的聚酯树脂颗粒混合而形成混合物时，该混合物的凝聚度为20%以下。

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