中国科学院长春应用化学研究所季生象获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院长春应用化学研究所申请的专利等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116332122B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310053555.1，技术领域涉及：B82B3/00；该发明授权等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法是由季生象;黄广诚;刘亚栋;韩苗苗设计研发完成，并于2023-02-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法在说明书摘要公布了：本发明属于纳米结构制造技术领域，本发明公开了一种等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法。本发明制备步骤包括：将聚合物刷毡接枝到基底表面‑清洗‑旋涂光刻胶‑曝光‑显影‑等离子改性‑清洗。其中，通过等离子改性聚合物刷毡，调节嵌段共聚物与刷毡之间的界面自由能，从而获取非选择性的基底。该方法易实现，合成简单，是值得推广的获取中性分子刷的方式。同时引导嵌段共聚物进行密度倍增组装，均得到无缺陷长程有序的形貌。相比传统化学图案法减少了修整刻蚀的步骤，制备过程对设备要求较低，制备流程简单易控制，仅需改变曝光剂量和氧等离子改性条件即可引导不同嵌段共聚物进行组装，且获得更高倍率的密度倍增效果。
本发明授权等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法，其特征在于，包括如下步骤： 在基底上形成聚合物刷毡； 在聚合物刷毡上涂覆光刻胶； 通过光刻方法在光刻胶层上曝光，选择性的去除未曝光的光刻胶层，再通过等离子体改性处理得到表面修饰有周期为Ls的3D纳米图案的基底，具有图案的改性聚合物刷毡中的图案为三维化学图案； 将相分离周期为Lo的嵌段共聚物涂覆在所述表面修饰有周期为Ls的3D纳米图案的基底上，退火诱导所述嵌段共聚物相分离形成纳米结构； 选择性地去除嵌段共聚物相分离所形成的纳米结构中的一相，以未去除的相作为掩模将所述纳米结构转移到基底上； 所述等离子体环境为氧气、氮气、氩气、空气、二氧化碳、氯气、卤代烷烃中的一种或多种； 使用聚合物刷毡作为前置基底，通过改变等离子条件调节聚合物刷毡与嵌段共聚物之间的界面能，从而引导不同嵌段共聚物形成纳米结构。
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