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美盈森集团股份有限公司周硕获国家专利权

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龙图腾网获悉美盈森集团股份有限公司申请的专利冷光片结构以及冷光片结构制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115954424B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211614671.8,技术领域涉及:H10H20/831;该发明授权冷光片结构以及冷光片结构制造方法是由周硕;张必应;王艳辉;陈枫设计研发完成,并于2022-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。

冷光片结构以及冷光片结构制造方法在说明书摘要公布了:本发明属于印刷电子技术领域,公开了一种冷光片结构以及冷光片结构制造方法。该冷光片结构包括上层和下层,上层包括上基材以及置于上基材的上电极层,上电极层由透光导电材料制成,下层包括下基材、下电极层以及发光层,下电极层置于下基材上,下电极层包括交错并间隔设置的若干个第一电极和若干个第二电极,发光层置于下电极层上;上层和下层相互独立或胶接连接。上述冷光片结构能够降低冷光片更换发光形状的成本,提高冷光片发光的稳定性。冷光片结构制造方法通过将上层与下层分开加工,且第一电极以及第二电极同时位于发光层的下层设置,降低了更换冷光片发光形状的成本,且省去了介电层的设置的步骤,保证了冷光片发光的稳定性。

本发明授权冷光片结构以及冷光片结构制造方法在权利要求书中公布了:1.冷光片结构,其特征在于,包括: 上层10,包括上基材11以及置于所述上基材11的上电极层12,所述上电极层12由透光导电材料制成,所述上基材11透光;以及 下层20,包括下基材21、下电极层22以及发光层23,所述下电极层22置于所述下基材21上,所述下电极层22包括交错并间隔设置的若干个第一电极221和若干个第二电极222,所述发光层23置于所述下电极层22上;所述上层10和所述下层20相互独立或胶接连接; 所述上层10还包括胶粘层13和离型纸层14,所述胶粘层13位于所述上电极层12背离所述上基材11的一侧,所述离型纸层14置于所述胶粘层13背离所述上电极层12的一侧,所述离型纸层14与所述胶粘层13可剥离设置; 所述下层20还包括保护层24,所述保护层24位于所述发光层23背离所述下电极层22的一侧,当所述上层10和所述下层20胶接时,所述胶粘层13贴合于所述保护层24上; 所述上层10还包括图案层15,所述图案层15位于所述上基材11背离所述上电极层12的一侧;所述图案层15上印刷有定位标,所述保护层24上印刷图案或者定位标。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人美盈森集团股份有限公司,其通讯地址为:518107 广东省深圳市光明新区光明新陂头村美盈森厂区A栋;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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