买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉基准方中建筑设计股份有限公司申请的专利一种立面设计方法、装置及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115952675B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211741978.4，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种立面设计方法、装置及存储介质是由唐弛;杨恒;傅朗;幸志鹏;黎亮;张菁设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种立面设计方法、装置及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种立面设计方法、装置及存储介质，包括以下步骤:将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域；在二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使单元网格阵列铺满所述二维绘制区域；根据至少一条干扰曲线确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸；获取设计完成的造型，设计完成的造型包括至少一个包含有偏移信息的曲面；将单元网格阵列投影到所述设计完成的造型上，得到与设计完成的造型有交集的单元网格集合；将设计完整的造型及单元网格集合按所述展开面进行合拢得到一立面；将立面中的曲面和及与所述曲面对应的单元网格按照对应的偏移信息进行偏移得到一立面单元模型。其设计的效率高且可实现精确的nurbs曲线设计。

本发明授权一种立面设计方法、装置及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种立面设计方法，其特征在于，包括以下步骤: 将三维曲面沿一展开面展开得到一二维绘制区域； 根据幕墙轮廓线的构成形式将其分解为直线段和弧线段； 将所述直线段和弧线段的长度依次对应到展开面上，得到区域属性，所述区域属性包括直线区间和弧线区间； 在所述二维绘制区域中绘制单元网格阵列以使所述单元网格阵列铺满所述二维绘制区域； 根据至少一条干扰曲线确定所述单元网格阵列中需要开孔的单元网格及对应的开孔尺寸； 获取设计完成的造型，所述设计完成的造型包括至少一个包含有偏移信息的曲面，偏移信息包括基于曲面法线方向需要偏移出的距离和基于曲面法线方向偏移后再将曲面沿曲面法线方向的挤出厚度； 将所述单元网格阵列投影到所述设计完成的造型上，得到与所述设计完成的造型有交集的单元网格集合； 将所述设计完成的造型及单元网格集合按所述展开面进行合拢得到一立面；将所述立面中的曲面和及与所述曲面对应的单元网格按照对应的偏移信息进行偏移得到一立面单元模型。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人基准方中建筑设计股份有限公司，其通讯地址为：610000 四川省成都市青羊区西玉龙街6号20楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。