株式会社维纳科斯香川幸大获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社维纳科斯申请的专利异物/缺陷检查装置、异物/缺陷检查中的图像生成装置以及异物/缺陷检查方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115917299B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180044962.5，技术领域涉及：G01N21/88；该发明授权异物/缺陷检查装置、异物/缺陷检查中的图像生成装置以及异物/缺陷检查方法是由香川幸大;岩崎修设计研发完成，并于2021-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本异物/缺陷检查装置、异物/缺陷检查中的图像生成装置以及异物/缺陷检查方法在说明书摘要公布了：由受光元件阵列光电二极管阵列的至少一个受光元件构成的一像素单位与光源一对一地对应，仅在光源发光时，由与该光源对应的至少一个受光元件一像素单位检测光束。因此，被准直或进一步大致聚光的仅一根光束射入到检查对象物中的“异物缺陷”，受光元件仅能够分离并检测被散射的光，因此即使是具有光散射性且具有厚度的检查对象，也能够以良好的SN串扰极少检测“异物缺陷”。
本发明授权异物/缺陷检查装置、异物/缺陷检查中的图像生成装置以及异物/缺陷检查方法在权利要求书中公布了：1.一种异物缺陷检查装置，其特征在于， 所述异物缺陷检查装置具备： 照明光学系统，其包含光扫描单元，该光扫描单元相对于具有光散射性的检查对象物中的至少一个以上的检查面扫描对从沿主扫描方向呈线状地分隔排列的多个光源射出的光进行准直而得到的光束、或扫描对将从沿主扫描方向呈线状地分隔排列的多个光源射出的光准直后的光束进一步进行大致聚光而得到的光束； 受光光学系统，其以所述光源和由至少一个受光元件构成的一像素单位一对一地对应的方式与所述照明光学系统的主扫描方向平行地配置，该受光光学系统包含多个受光元件，透射所述检查对象物的检查面后的所述光束照射到位于该检查对象物的异物或缺陷，所述多个受光元件接收来自该异物或缺陷的散射光、扩散光、或者被吸收扩散反射、被透射扩散的具有强弱的光；以及 检测单元，其仅利用对应的受光元件检测来自所述照明光学系统的主扫描方向的任意位置处的所述光源的光束， 由所述至少一个受光元件构成的一像素单位的空间分辨率为由检查对象物的检查面上的照明光学系统形成的所述光束的空间分辨率以上。
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