源能智创(江苏)半导体有限公司张飞飞获国家专利权
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龙图腾网获悉源能智创(江苏)半导体有限公司申请的专利一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115877666B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111161072.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统是由张飞飞;张雷设计研发完成，并于2021-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统在说明书摘要公布了：一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统，在第一工位对基底的正面曝光，并在基底的背面获取模板图像，在第二工位对基底的背面进行曝光，并通过模板图像对基底进行对位，按照在第一工位获取的模板图像的顺序进行索引号存储，得到调取序列，在第二工位按照调取序列的顺序逐个调取模板图像，在批量处理过程中，对于在第二工位进行曝光操作的基底，以进行曝光操作的次数进行计数，对于在第二工位未进行曝光操作的基底，以下板操作进行计数。及时准确的对调取序列进行计数，避免调取的模板图像与基底不匹配而造成对位失败。
本发明授权一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种对批量基底进行双面曝光的方法，其特征在于：在第一工位对基底的正面曝光，并在基底的背面获取图像标记点的模板图像，按照在第一工位获取的模板图像的顺序进行索引号存储，得到调取序列，在第二工位对基底的背面进行曝光时，在第二工位根据基底的加工顺序获取当前基底对应的模版图像在调取序列的位置调取模板图像，并通过模板图像对基底进行对位，在批量处理过程中，对于在第二工位进行曝光操作的基底，以进行曝光操作的次数进行调取序列的计数，对于在第二工位未进行曝光操作的基底，以下板操作进行调取序列的计数，获得当前基底对应的模版图像在调取序列的位置。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人源能智创(江苏)半导体有限公司，其通讯地址为：215399 江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号华平(昆山)智造园B-6号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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