德国艾托特克有限两合公司H·布伦纳获国家专利权
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龙图腾网获悉德国艾托特克有限两合公司申请的专利铜电镀浴获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115735024B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180045018.1,技术领域涉及:C25D3/38;该发明授权铜电镀浴是由H·布伦纳;S·海德;P·哈克;A·利亚沃纳-塞拉诺设计研发完成,并于2021-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本铜电镀浴在说明书摘要公布了:本发明涉及用于在制造用于电子应用的印刷电路板、IC衬底、半导体和玻璃装置中电沉积铜和铜合金的水性酸性电镀浴。根据本发明的电镀浴包含铜离子、至少一种酸和亚脲基聚合物。所述电镀浴特别适用于用铜填充凹陷结构和构建柱状凸块结构。
本发明授权铜电镀浴在权利要求书中公布了:1.一种水性酸性铜电镀浴,其包含铜离子源、酸和至少一种选自根据式I、II和或III的聚合物的亚脲基聚合物: 其中 n表示1到40的整数,和 A表示衍生自下式IV、V、VI和或VII的二氨基化合物的单元: 其中 R1、R2、R5、R6独立地选自由以下组成的群组:具有1到10个碳原子的经取代或未经取代的烃残基或-CH2CH2OCH2CH2a-OH,其中a是0到4的整数,和 R3、R4独立地选自基团CH2p,其中p是2到12的整数,或-[CH2CH2O]m-CH2CH2-基团,其中m是1到40的整数, Z可为相同或不同的且表示O或S, x和y是整数,且可为相同或不同的, R7和R8独立地选自基团CH2p,其中p是1到12的整数,或-[CH2CH2O]m-CH2CH2-基团,其中m是1到40的整数,其中式VII中的R7、R8相对于吡啶环包含的氮原子可间位或对位结合到所述吡啶基部分, 单一单元A可为相同或不同的, 其中B和B’表示衍生自下式VIII、IX、X或XI化合物的单元: 其中 R5、R6独立地选自由以下组成的群组:具有1到10个碳原子的经取代或未经取代的烃残基,和-CH2CH2OCH2CH2a-OH,其中a是0到4的整数,和 R3选自基团CH2p,其中p是2到12的整数,或-[CH2CH2O]m-CH2CH2-基团,其中m是1到40的整数, Z表示O或S, x是整数, R7选自基团CH2p,其中p是1到12的整数,或-[CH2CH2O]m-CH2CH2-基团,其中m是1到40的整数,其中式XI中的R7相对于吡啶环包含的氮原子可间位或对位结合到所述吡啶基部分, R9选自由以下组成的群组:氢、具有1到10个碳原子的直链或分支链经取代或未经取代的烃残基、-CH2CH2OCH2CH2a-OR10和-CH2CH2OCH2CH2a-OCH2CHCH3b-OR10,其中a是0到10的整数和b是0到10的整数,且R10是选自具有1到10个碳原子的直链或分支链经取代或未经取代的烃残基的基团, 或其中R9或R10选自由以下组成的群组:芳基或烷芳基残基,其可经取代或未经取代,且其可含有一个或多个杂原子, 其中B和B’是不同的, 其中L是二价单元,其选自由以下组成的群组: -R11-XII 其中 R11选自由以下组成的群组:亚烷基-CH2c-,其中c是2到10的整数,和二甲苯基, 各R12是彼此独立地选自由以下组成的群组:氢、烷基、芳基、烷芳基, M是0到3的整数,φ是在1到100的范围内的整数,且K是在1到3的范围内的整数, 其中所述单一单元L可为相同或不同的其中一种或多种式IV、V、VI和或VII二氨基化合物与一种或多种下式XIIa或XIIIa化合物反应, LG-R11—LGXIIa 其中式XIIa中或式XIIIa中的LG可为相同或不同的,且为离去基,其在取代反应中可经所述式IV、V、VI或VII化合物的N原子,或所述式VIII、IX、X或XI化合物的N原子置换。
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