富士胶片株式会社山口圭吾获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利转印膜、感光性材料、图案形成方法、电路基板的制造方法、触摸面板的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115280239B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180019679.7，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权转印膜、感光性材料、图案形成方法、电路基板的制造方法、触摸面板的制造方法是由山口圭吾;儿玉邦彦;铃木正弥设计研发完成，并于2021-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本转印膜、感光性材料、图案形成方法、电路基板的制造方法、触摸面板的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种图案形成性优异，并且能够形成低透湿性的图案的转印膜。并且，提供一种图案形成性优异的感光性材料。并且，提供一种图案形成方法、电路基板的制造方法及触摸面板的制造方法。转印膜具有临时支承体以及配置于上述临时支承体上的包含具有酸基的化合物A的感光性层，上述感光性层中的上述酸基的含量由于光化射线或放射线的照射而减少。
本发明授权转印膜、感光性材料、图案形成方法、电路基板的制造方法、触摸面板的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种转印膜，其具有临时支承体以及配置于所述临时支承体上的包含具有酸基的化合物A的感光性层， 所述感光性层中的所述酸基的含量由于光化射线或放射线的照射而减少， 所述感光性层满足下述要件V01： 要件V01 所述感光性层包含所述化合物A以及具有通过曝光而使所述化合物A所包含的所述酸基的量减少的结构的化合物β， 在所述要件V01中，所述化合物β是具有能够在光激发状态下，从所述化合物A所包含的所述酸基接受电子的结构的化合物B， 在所述感光性层中，所述化合物B所包含的能够接受所述电子的结构的总数相对于所述化合物A所包含的酸基的总数为5摩尔%以上， 所述化合物β在365nm下的摩尔吸光系数ε为1×103cm·molL-1以下， 所述化合物β为任选地具有取代基的芳香族化合物， 所述化合物β具有杂芳香环，且所述化合物β至少具有氮原子作为所述杂芳香环所具有的杂原子， 在所述感光性层中，所述化合物A的含量相对于所述感光性层的总质量为45质量%以上， 所述化合物A含有包含源自甲基丙烯酸的重复单元的聚合物。
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