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龙图腾网获悉爱思强有限公司申请的专利CVD反应器和用于处理过程室盖板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115190918B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180014575.7，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权CVD反应器和用于处理过程室盖板的方法是由O.费龙设计研发完成，并于2021-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本CVD反应器和用于处理过程室盖板的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种CVD反应器，其具有壳体1，具有向下限定过程室23的边界的基座5并且具有向上限定过程室23的边界的盖板6，其中，盖板6能通过能从下降的位置升高到安装位置中的升降元件11升高直至贴靠在壳体1的固定部段21上的贴靠位置，盖板6能在固定部段21上固定在壳体1上。为了能自动或半自动地将盖板6固定在壳体1上，设置有升降元件11，该升降元件11或者包围基座5或者在基座5的边缘处支撑该基座5。升降元件11也能由保护管形成。盖板6能通过升降元件11被带入其能通过装载口18取出的位置中。

本发明授权CVD反应器和用于处理过程室盖板的方法在权利要求书中公布了：1.一种CVD反应器，其具有壳体1，所述壳体具有朝向上的带有开口边缘24'的开口24， 具有盖子2，所述盖子支承在开口边缘24'上并将开口24封闭， 具有布置在壳体1内的过程室23，所述过程室向下由基座5并且向上由盖板6限定边界， 其中，所述基座5能由布置在基座5下方的加热装置7加热， 其中，所述盖子2具有喷淋头形式的带有气体分布容积的进气机构4， 其中，所述盖板6通过能松脱的固定器件20固定在盖子2的固定部段21上， 具有位于平面中的装载口18，所述装载口构造成使得盖板6在降低到该平面中后能通过抓取器经由装载口18运输， 具有能垂直移动的升降装置，所述升降装置被设置用于，以升降元件11的区段作用在盖板6的边缘上，选择性地提升盖板6或将其降低到所述平面中， 其特征在于，所述升降元件11由包围加热装置7的保护管构成，保护管通过上部的部段构成保护管边缘，在过程位置中基座的边缘支撑在保护管边缘上， 其中，所述升降装置被构造成，通过所述升降元件11将盖板6连同通过固定器件20固定在盖板6上的盖子2一起提升到下述位置中，在该位置中保护管边缘向外突出超过开口24的开口边缘24'，使得能够手动或自动地松脱所述固定器件20， 其中，所述保护管边缘作用在盖板6的边缘上。

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