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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利多孔玻璃基材的制造设备和制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114477777B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111226057.X，技术领域涉及：C03C11/00；该发明授权多孔玻璃基材的制造设备和制造方法是由小岛大辉设计研发完成，并于2021-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本多孔玻璃基材的制造设备和制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及多孔玻璃基材的制造设备和制造方法。提供可以抑制由气化的气体流量波动引起的条纹的多孔玻璃基材的制造设备和制造方法。多孔玻璃基材的制造设备包括多个沉积设备，该沉积设备通过在氢氧焰中由气化的原料化合物产生原料颗粒，然后将产生的原料颗粒沉积在旋转的开始材料上来制造多孔玻璃基材。制造设备包括至少一个贮存容器，至少一个蒸气发生机构，和至少一个气体通道。气体通道包括公共气体通道；和多个独立气体通道。多个独立气体通道各自具有控制气化的原料化合物的流量的流量控制器，控制气化的原料化合物分布的开关打开关闭的蒸气阀，和设置在流量控制器上游并且能够调节流道截面积的阀。

本发明授权多孔玻璃基材的制造设备和制造方法在权利要求书中公布了：1.一种多孔玻璃基材的制造设备，其包括多个沉积设备，所述沉积设备通过在氢氧焰中由气化的原料化合物产生原料颗粒，然后将产生的所述原料颗粒沉积在旋转的开始材料上来制造多孔玻璃基材，所述制造设备包括： 至少一个贮存容器，其用于按类别贮存液体状的所述原料化合物； 至少一个蒸气发生机构，其用于使所述贮存容器中的所述原料化合物气化；和 至少一个气体通道，其用于将由所述蒸气发生机构气化的所述原料化合物供给至所述多个沉积设备，每个独立的沉积设备产生单独的多孔玻璃基材； 其中所述气体通道包括： 公共气体通道，所述公共气体通道被共用以将所述气化的原料化合物供给至所述多个沉积设备；和 多个独立气体通道，所述多个独立气体通道从所述公共气体通道分支出以将所述气化的原料化合物单独供给至各所述沉积设备，和 其中各所述多个独立气体通道包括： 控制所述气化的原料化合物的流量的流量控制器； 控制所述气化的原料化合物分布的开关的蒸气阀；和 设置在所述流量控制器上游并且能够调节流道截面积的阀， 其中，压力指示控制计PIC设置在独立气体通道中，且紧靠每个阀的下游，阀的开度根据每个PIC检测到的压力自动调整， 所述制造设备进一步包括控制单元，所述控制单元调节设置在独立气体通道中的阀的开度，使得所述独立气体通道中所述阀的下游的压力为所述蒸气发生机构中所述气化的原料化合物的压力的70~95%。

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