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龙图腾网获悉常州鼎先电子有限公司申请的专利一种PD-SOI集成电路工艺下的新型ESD防护装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114267673B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111587008.9，技术领域涉及：H10D89/60；该发明授权一种PD-SOI集成电路工艺下的新型ESD防护装置是由姜一波;杨帆;邢红飞;孙丽丽;杜文汉设计研发完成，并于2021-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种PD-SOI集成电路工艺下的新型ESD防护装置在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体技术领域中的集成电路ESD防护可靠性的设计，具体为针对一种PD‑SOI集成电路工艺下的新型ESD防护装置，在PD‑SOI集成电路工艺下通过适当掺杂和结构设计形成侧边附加结构，该侧边附加结构在与径向垂直的侧向方向上，从而为传统的PNPN可控硅结构提供了额外的嵌入式寄生机构，构成新型ESD防护装置；包含半导体基底一、半导体基底二、绝缘体介质一、绝缘体介质二、绝缘体上半导体基质一、绝缘体上半导体基质二、绝缘体上半导体基质上的多晶硅一和多晶硅二；所述多晶硅一根据方向不同分为径向多晶硅和侧边多晶硅，径向多晶硅和侧边多晶硅电连接，侧边多晶硅在一侧收窄，宽处与窄处有倒角；所述半导体基底一和半导体基底二可以为硅基底。

本发明授权一种PD-SOI集成电路工艺下的新型ESD防护装置在权利要求书中公布了：1.一种PD-SOI集成电路工艺下的新型ESD防护装置，其特征在于，包含半导体基底一101、半导体基底二201、绝缘体介质一102、绝缘体介质二202、绝缘体上半导体基质一103、绝缘体上半导体基质二203、绝缘体上半导体基质上的多晶硅一104和多晶硅二204；所述多晶硅一104根据方向不同分为径向多晶硅111和侧边多晶硅112，径向多晶硅111和侧边多晶硅112电连接，侧边多晶硅112在一侧收窄，宽处与窄处有倒角113；所述半导体基底一101和半导体基底二201为硅基底；绝缘体介质一102和绝缘体介质二202为SiO2绝缘体，绝缘体上半导体基质一103、绝缘体上半导体基质二203为有源区， 通过掺杂形成第一半导体类型301，所述第一半导体类型301为绝缘体上半导体基质一103、绝缘体上半导体基质二203的底掺杂，或为扩散形成的阱区掺杂； 通过掺杂形成第二半导体类型302，所述第二半导体类型302为阱区掺杂；第一半导体类型重掺杂一3031、第一半导体类型重掺杂二3032和第一半导体类型重掺杂三3033与第二半导体类型重掺杂一3041、第二半导体类型重掺杂二3042的掺杂浓度远高于第一半导体类型301中掺杂和第二半导体类型302中掺杂，与金属或者金属硅化物引出形成无肖特基势垒的欧姆接触，同时亦为寄生ESD泄放机构的电极； 所述第一半导体类型重掺杂一3031、第一半导体类型重掺杂二3032和第一半导体类型重掺杂三3033与第二半导体类型重掺杂一3041、第二半导体类型重掺杂二3042为多晶硅一104的自对准形成； 所述第一半导体类型重掺杂一3031、第一半导体类型重掺杂二3032和第一半导体类型重掺杂三3033与第二半导体类型重掺杂一3041、第二半导体类型重掺杂二3042由多晶硅一104图形转移构成；并通过倒角113的图形转移，形成第一半导体类型重掺杂三3033的宽处与窄处的倒角； 主方向上第一半导体类型重掺杂一3031、第二半导体类型302的掺杂和第一半导体类型301中的掺杂构成寄生PNP-BJT一401，主方向上第二半导体类型302的掺杂、第一半导体类型301的掺杂、第一半导体类型重掺杂二3032构成寄生NPN-BJT403； 侧方向上第一半导体类型重掺杂一3031、第二半导体类型302的掺杂、第一半导体类型重掺杂三3033构成寄生PNP-BJT二405；由第一半导体类型重掺杂一3031和第二半导体类型重掺杂一3041引出形成阳极电极，第二半导体类型重掺杂一3041至第一半导体类型重掺杂一3031的内阻构成寄生电阻一402，第二半导体类型重掺杂一3041至第一半导体类型重掺杂三3033的内阻构成寄生电阻二406； 第一半导体类型重掺杂二3032、第二半导体类型重掺杂二3042、第二半导体类型重掺杂二3042引出形成阴极电极，第二半导体类型重掺杂二3042至第一半导体类型重掺杂二3032的内阻构成寄生电阻二404。

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