FEI 公司T·安德利卡获国家专利权
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龙图腾网获悉FEI 公司申请的专利基于重建体积的薄片对准获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114252462B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111106883.0，技术领域涉及：G01N23/04；该发明授权基于重建体积的薄片对准是由T·安德利卡;J·斯塔雷克;L·许布纳设计研发完成，并于2021-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于重建体积的薄片对准在说明书摘要公布了：基于重建体积的薄片对准。本文公开了用于基于体积重建将薄片对准带电粒子束的设备和方法。示例方法至少包含：形成样品的一部分的重建体积，所述样品包含多个结构，并且所述重建体积包含所述多个结构的一部分；在一定角度范围内对所述重建体积的多个平面中的每个平面执行数学变换；以及基于对所述多个平面中的每个平面的所述数学变换，确定所述样品在所述角度范围内的目标定向，其中所述目标定向使所述多个结构平行于带电粒子束的光轴对准。
本发明授权基于重建体积的薄片对准在权利要求书中公布了：1.一种方法，其包括： 形成样品的一部分的重建体积，所述样品包含多个结构，并且所述重建体积包含所述多个结构的一部分； 在一定角度范围内对所述重建体积的多个平面中的每个平面执行数学变换；以及 基于对所述多个平面中的每个平面的所述数学变换，确定所述样品在所述角度范围内的目标定向，其中所述目标定向使所述多个结构平行于带电粒子束的光轴对准。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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