芯恩(青岛)集成电路有限公司吕吉庆获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利导流环组件及等离子刻蚀设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223743594U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520043539.9,技术领域涉及:H01J37/32;该实用新型导流环组件及等离子刻蚀设备是由吕吉庆;赵月梅;王玉莹设计研发完成,并于2025-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本导流环组件及等离子刻蚀设备在说明书摘要公布了:本申请提供了一种导流环组件及晶圆等离子刻蚀装置,其中,导流环组件包括导流环和调节组件,所述导流环上设有第一导流孔,调节组件转动连接所述导流环轴向的一侧,所述调节组件上设有第二导流孔和遮挡部,所述第二导流孔和所述遮挡部沿所述调节组件的转动方向间隔,通过调节调节组件相对导流环的位置,以调节第一导流孔的孔径,进而实现对刻蚀腔内流道孔径的调节,在保证对晶圆的刻蚀精度的同时,无需开腔对导流板进行更换,从而保证对晶圆等离子刻蚀设备对晶圆的刻蚀效率。
本实用新型导流环组件及等离子刻蚀设备在权利要求书中公布了:1.一种导流环组件,其特征在于,包括: 导流环,所述导流环上设有第一导流孔,所述第一导流孔沿所述导流环的轴向贯穿所述导流环; 调节组件,转动连接所述导流环轴向的一侧,所述调节组件上设有第二导流孔和遮挡部,所述第二导流孔和所述遮挡部沿所述调节组件的转动方向间隔; 所述调节组件相对所述导流环具有第一位置和第二位置; 在所述调节组件位于所述第一位置时,所述第二导流孔的位置与所述第一导流孔的位置相对以导通所述第一导流孔; 在所述调节组件位于所述第二位置时,所述遮挡部的位置与所述第一导流孔的位置相对以闭合所述第一导流孔; 在所述调节组件位于所述第一位置和所述第二位置之间的任意位置时,所述遮挡部遮挡部分所述第一导流孔以调节所述第一导流孔的孔径。
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