深圳市峰泳科技有限公司李峰获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市峰泳科技有限公司申请的专利厚度均匀的平面电容材料获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223743473U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520289730.1,技术领域涉及:H01G4/06;该实用新型厚度均匀的平面电容材料是由李峰;卢星华;杨柳设计研发完成,并于2025-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本厚度均匀的平面电容材料在说明书摘要公布了:本申请提供一种厚度均匀的平面电容材料,包括相对设置的第一电极板和第二电极板以及连接于所述第一电极板与所述第二电极板之间的至少一层介质层,所述介质层包括第一介质膜和第二介质膜,所述第一介质膜包括第一厚区域和第一薄区域,所述第二介质膜包括第二厚区域和第二薄区域,所述第一厚区域与所述第二薄区域覆合在一起,所述第二厚区域与所述第一薄区域覆合在一起,所述第一厚区域与所述第二薄区域的厚度之和等于所述第二厚区域与所述第一薄区域的厚度之和。本申请的厚度均匀的平面电容材料的第一介质膜与第二介质膜的厚度互补,保证介质层各处的厚度均匀。
本实用新型厚度均匀的平面电容材料在权利要求书中公布了:1.一种厚度均匀的平面电容材料,其特征在于,包括相对设置的第一电极板和第二电极板以及连接于所述第一电极板与所述第二电极板之间的至少一层介质层,所述介质层包括第一介质膜和第二介质膜,所述第一介质膜包括第一厚区域和第一薄区域,所述第二介质膜包括第二厚区域和第二薄区域,所述第一厚区域与所述第二薄区域覆合在一起,所述第二厚区域与所述第一薄区域覆合在一起,所述第一厚区域与所述第二薄区域的厚度之和等于所述第二厚区域与所述第一薄区域的厚度之和。
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