中晟半导体(上海)有限公司任鑫宇获国家专利权
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龙图腾网获悉中晟半导体(上海)有限公司申请的专利气体喷淋装置及化学气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223738131U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423216287.X，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型气体喷淋装置及化学气相沉积设备是由任鑫宇;李瑞;施广涛设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本气体喷淋装置及化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种气体喷淋装置及化学气相沉积设备，该装置用于向反应腔内部通入反应气体，包括：第一引入通道，其通过第一输送通道将第一反应气体通入反应腔；第二引入通道，其通过第二输送通道将第二反应气体通入反应腔；旋转机构，配置为承接并带动待外延的目标件以旋转轴线进行旋转；其中，旋转轴线与被承载目标件所在平面垂直；调节通道，其通过调节通道出气口将第三反应气体通入反应腔；其中，调节通道位于反应腔顶部区域，调节通道的轴线不与旋转轴线重合。该装置通过偏心设置调节通道，使得调节通道避开了目标件旋转时线速度为零的位置。最终提高了中心区域流场均匀性，相应也就提高了对目标件进行外延的均匀性。
本实用新型气体喷淋装置及化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种气体喷淋装置，其用于向反应腔内部通入反应气体，其特征在于，包括： 第一引入通道，其通过第一输送通道将第一反应气体通入所述反应腔； 第二引入通道，其通过第二输送通道将第二反应气体通入所述反应腔； 旋转机构，配置为承接并带动待外延的目标件以旋转轴线进行旋转；其中，所述旋转轴线与被承载目标件所在平面垂直； 调节通道，其通过调节通道出气口将第三反应气体通入所述反应腔；其中，所述调节通道位于反应腔顶部区域，所述调节通道的轴线不与旋转轴线重合。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中晟半导体(上海)有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区(上海)自由贸易试验区临港新片区妙香路2189号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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