嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心王浙加获国家专利权
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龙图腾网获悉嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心申请的专利一种原子层沉积设备的粉末内腔获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223738130U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423212868.6，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种原子层沉积设备的粉末内腔是由王浙加;蒋欢;明帅强;沈云华;李明;张亦哲;戴昕童;李国庆;徐硕;闻梦瑶设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种原子层沉积设备的粉末内腔在说明书摘要公布了：本实用新型属于原子层沉积技术领域，涉及一种原子层沉积设备的粉末内腔，包括：壳体，所述壳体内设置有容纳腔；盖板，所述盖板设置于所述容纳腔内；内胆，所述内胆设置于所述盖板上，且与所述容纳腔的内壁间隔预设距离；所述容纳腔与原子层沉积设备的反应腔室连接。本申请提供的一种原子层沉积设备的粉末内腔兼容现有的平面原子层沉积设备，无需设备改造就能进行粉体包覆；粉末内腔通过螺丝与原子层沉积设备外腔连接，方便拆卸以及维护；滤网目数可进行调整，兼容不同粒径的粉体。
本实用新型一种原子层沉积设备的粉末内腔在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积设备的粉末内腔，其特征在于，包括： 壳体，所述壳体内设置有容纳腔； 盖板，所述盖板设置于所述容纳腔内； 内胆，所述内胆设置于所述盖板上，且与所述容纳腔的内壁间隔预设距离；所述容纳腔与原子层沉积设备的反应腔室连接。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心，其通讯地址为：314001 浙江省嘉兴市南湖区凌公塘路3339号(嘉兴科技城)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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