合肥埃科光电科技股份有限公司曹桂平获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥埃科光电科技股份有限公司申请的专利一种高精度图像处理装置、方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121013010B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511544819.9，技术领域涉及：H04N25/706；该发明授权一种高精度图像处理装置、方法及系统是由曹桂平;张光宇;唐俊峰;邵云峰;董宁设计研发完成，并于2025-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高精度图像处理装置、方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高精度图像处理装置、方法及系统，图像处理装置包括：反射镜，分布在图像传感器的感光区前方，用于对成像光线进行反射，从而实现像素位移；辅助光源，分布在靠近反射镜的光入射侧；监测传感器，分布在靠近反射镜的光出射侧，用于对经过反射镜的激光光束进行采集；处理器，分别与图像传感器、监测传感器相连，用于分析当前激光光束在监测传感器表面的入射位置与参考点之间存在的偏离量，从而调整反射镜。本发明不仅能够实现真彩检测效果，而且在面对高精度检测场景时，能够精准实现像素位移，从而避免各分量的检测偏差，满足可靠性的同时实现高精度、高帧率检测需求。
本发明授权一种高精度图像处理装置、方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种高精度图像处理装置，用于对像素位移中的位移量进行监测，以使该位移量满足精度要求，其特征在于，所述图像处理装置包括： 反射镜，分布在图像传感器的感光区前方，用于对成像光线进行反射，以改变成像光线在图像传感器上的入射位置，从而实现像素位移； 辅助光源，分布在靠近反射镜的光入射侧，用于发射激光光束，以使激光光束与成像光线同时经过反射镜； 监测传感器，分布在靠近反射镜的光出射侧，用于对经过反射镜的激光光束进行采集，使得成像光线偏移至图像传感器的预设位置时，得到激光光束在监测传感器表面的入射位置，以作为参考点； 处理器，分别与图像传感器、监测传感器相连，用于分析当前激光光束在监测传感器表面的入射位置与参考点之间存在的偏离量，从而调整反射镜，以使偏离量满足偏离量阈值区间，从而保留调整反射镜后对应图像传感器采集到的图像数据。
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