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龙图腾网获悉捷莱弗科技(杭州)有限公司申请的专利一种高通量基因芯片的洗脱方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121003955B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511541145.7，技术领域涉及：B01J19/00；该发明授权一种高通量基因芯片的洗脱方法及系统是由陈丽;李常凯设计研发完成，并于2025-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高通量基因芯片的洗脱方法及系统在说明书摘要公布了：本发明的一种高通量基因芯片的洗脱方法及系统，属于分子生物学领域。本发明通过使初始基板的表面形成均匀疏水层，并使反应位点内形成活性基团。对反应位点内进行分区设置，在洗脱过程中，通过其上形成有隔离孔的网格板，将各个分区分隔开，防止高通量基因芯片上的不同分区的洗脱干涉。并使网格板的疏水特性大于基板的疏水特性，从而在洗脱时有效避免交叉污染。

本发明授权一种高通量基因芯片的洗脱方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种高通量基因芯片的洗脱方法，其特征在于：包括如下步骤： S1：对初始基板进行预处理，初始基板为平整的板状结构，所述预处理包括：使初始基板的表面形成均匀疏水层，得到第一基板； S2：对第一基板进行蚀刻处理，使得第一基板上形成有MARK标识和阵列反应位点，得到第二基板； S3：对所述反应位点进行脱保护处理，使反应位点内形成活性基团； S4：对反应位点进行分区，多个相邻反应位点为一个区，分成N个分区，N=2； S5：通过喷墨打印设备向反应位点内喷入目标单体溶液、活化剂溶液，与活性基团发生偶联反应得到核苷酸的混合溶液，核苷酸的混合溶液中的核苷酸连接到第二基板表面； S6：对上述反应位点上的混合溶液进行清洗、氧化、盖帽、脱保护处理；本步骤中，同一分区的反应位点执行相同的操作； S7：根据目标碱基序列，重复执行通过喷墨打印设备向反应位点内喷入目标单体溶液、活化剂溶液的步骤和步骤S6，进行碱基产物延长反应，得到含有核苷酸链的混合溶液，核苷酸链的混合溶液中的核苷酸链连接到第二基板表面； S8：将网格板卡合在第二基板上；其中，网格板包括凹槽部和卡合部，凹槽部上设有与上述N个分区相对应的配合孔，每个分区对应一个配合孔；网格板采用疏水材料制成； S9：对上述N个分区的至少部分分区分别进行洗脱操作。

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