季华实验室秦燕亮获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利薄膜厚度的测量系统、方法、设备及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120947509B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511471050.2,技术领域涉及:G01B11/06;该发明授权薄膜厚度的测量系统、方法、设备及计算机可读存储介质是由秦燕亮;于帅北;安宁;涂政乾;刘星锦;徐成;李义设计研发完成,并于2025-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本薄膜厚度的测量系统、方法、设备及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种薄膜厚度的测量系统、方法、设备及计算机可读存储介质,涉及薄膜厚度测量技术领域,包括光源单元,用于发射初始光源信号;分光单元,设置在初始光源信号的发射路径上,用于将初始光源信号分光为第一光源信号和第二光源信号;成像物镜,设置在第一光源信号的发射路径上,测量位置放置待测量薄膜,用于将第一光源信号照射到待测量薄膜上并形成测量信号,并将测量信号返回;参考信号单元,设置在第二光源信号的发射路径上,用于将第二光源信号的作用下的参考信号返回;成像光谱仪,设置在分光单元的反射路径上,用于基于分光单元返回的参考信号和测量信号确定待测量薄膜的厚度,提高了薄膜厚度的测量准确率。
本发明授权薄膜厚度的测量系统、方法、设备及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了:1.一种薄膜厚度的测量系统,其特征在于,所述薄膜厚度的测量系统包括: 光源单元,所述光源单元用于发射初始光源信号; 分光单元,所述分光单元设置在所述初始光源信号的发射路径上,所述分光单元用于将所述初始光源信号分光为第一光源信号和第二光源信号; 成像物镜,所述成像物镜设置在所述第一光源信号的发射路径上,所述成像物镜的测量位置放置待测量薄膜,所述成像物镜用于将所述第一光源信号照射到所述待测量薄膜上并形成测量信号,并将所述测量信号返回至所述分光单元; 参考信号单元,所述参考信号单元设置在所述第二光源信号的发射路径上,所述参考信号单元用于将所述第二光源信号的作用下的参考信号返回至所述分光单元,其中,所述参考信号为所述第二光源信号照射到所述参考信号单元之后,所述参考信号单元基于第二光源信号进行反射的信号; 成像光谱仪,所述成像光谱仪设置在所述分光单元的反射路径上,所述成像光谱仪用于获取所述分光单元返回的参考信号和测量信号,并基于所述参考信号和所述测量信号确定所述待测量薄膜的厚度,所述成像光谱仪上设置入射狭缝,用于接收所述参考信号和所述测量信号,其中,根据所述参考信号和所述测量信号确定所述待测量薄膜的厚度的步骤,包括:获取所述薄膜厚度的测量系统的系统参数信息,其中,所述系统参数信息包括所述参考信号的光路单独对应的第一透过率、所述测量信号的光路单独对应的第二透过率和所述参考信号单元的镜片反射率;针对所述待测量薄膜上每一点的测量信号,确定所述测量信号与所述参考信号之间的第一比值,并确定所述第二透过率和所述第一透过率之间的第二比值,将所述第一比值、所述第二比值和所述镜片反射率之间的乘积作为所述待测量薄膜的薄膜反射率,根据所述待测量薄膜的薄膜反射率确定所述待测量薄膜的厚度。
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