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龙图腾网获悉首钢智新电磁材料(迁安)股份有限公司;首钢智新电磁材料研发(北京)有限公司申请的专利一种大面积磁畴直接成像的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120870982B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511403456.7，技术领域涉及：G01R33/12；该发明授权一种大面积磁畴直接成像的方法是由黎先浩;赵鹏飞;郎雨琪;胡志远;赵海瑞;肖辉明;朱博严;刘磊;王德坤;从道永;王建;段建阳设计研发完成，并于2025-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种大面积磁畴直接成像的方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种大面积磁畴直接成像的方法，属于磁畴观察技术领域，所述方法包括：在取向硅钢片的两侧分别设置多个永磁体，多个永磁体以第一设定间距沿直线排列，且每个永磁体与取向硅钢片的边界之间的距离为第二设定间距；在取向硅钢片的中心位置设置线圈，以使线圈的磁场与永磁体的磁场叠加，形成增强型磁场；在增强型磁场的作用下，将具有设定梯度粒径的磁流体一次性均匀涂敷于取向硅钢片的表面，以实现磁畴的直接成像。本申请通过磁场‑磁流体协同调控，解决了现有技术中大面积磁畴成像不清晰、不完整的问题，实现了超大面积磁畴的高清晰度、高完整性成像，为磁性材料研究提供了新的技术手段。

本发明授权一种大面积磁畴直接成像的方法在权利要求书中公布了：1.一种大面积磁畴直接成像的方法，其特征在于，所述方法包括： 在取向硅钢片的两侧分别设置多个永磁体，多个所述永磁体以第一设定间距沿直线排列，且每个所述永磁体与所述取向硅钢片的边界之间的距离为第二设定间距； 在所述取向硅钢片的中心位置设置线圈，以使所述线圈的磁场与所述永磁体的磁场叠加，形成增强型磁场； 在所述增强型磁场的作用下，将具有设定梯度粒径的磁流体一次性均匀涂敷于所述取向硅钢片的表面，以实现磁畴的直接成像； 其中，所述第一设定间距和所述第二设定间距均为4cm～6cm，所述增强型磁场的强度为0.3mT～0.4mT，磁场方向为N极向上，所述设定梯度粒径D1至D4分别选自区间15μm≤D1≤20μm、25μm≤D2≤30μm、35μm≤D3≤40μm以及60μm≤D4≤80μm，所述一次性均匀涂敷的涂覆量为0.4mLcm2～0.6mLcm2； 所述线圈包括如下至少一种性能：形状为矩形，尺寸为70mm×250mm至90mm×300mm，匝数为8至12，通电电流为0.2A～1A。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人首钢智新电磁材料(迁安)股份有限公司;首钢智新电磁材料研发(北京)有限公司，其通讯地址为：064400 河北省唐山市河北迁安经济开发区兆安街025号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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