北京大学彭梓洋获国家专利权
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龙图腾网获悉北京大学申请的专利用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统及膜厚测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120120971B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311673925.8，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统及膜厚测量方法是由彭梓洋;高营;曹正轩;马文君设计研发完成，并于2023-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统及膜厚测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统，在靶后形成以下光路：入射光路，由照明光源发出入射光线，经过第一分束立方体后进入显微物镜中，通过显微物镜聚焦照射向靶；反射光路，入射光照射靶后形成反射光，反射光经显微物镜进入第一分束立方体，经过第一分束立方体分束为两束，一束进入光谱仪中，另一束进入第二分束立方体，通过第二分束立方体再次分为两束，一束进入第一相机，另一束进入第二相机。本发明公开的用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统，通过一个系统，同时解决了靶成像照明与靶膜厚度检测的问题，并且降低了系统的复杂度，节约了空间。
本发明授权用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统及膜厚测量方法在权利要求书中公布了：1.一种用于激光离子加速的靶后膜厚测量成像系统，其特征在于，在靶1后设置有显微物镜2、第一分束立方体31、第二分束立方体32、第一相机41、第二相机42、照明光源5和光谱仪6，进而形成以下光路： 入射光路，由照明光源5发出入射光线，经过第一分束立方体31后进入显微物镜2中，通过显微物镜2聚焦照射向靶1； 反射光路，入射光照射靶1后形成反射光，反射光经显微物镜2进入第一分束立方体31，经过第一分束立方体31分束为两束，一束进入光谱仪6中，另一束进入第二分束立方体32，通过第二分束立方体32再次分为两束，一束进入第一相机41，另一束进入第二相机42。
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