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龙图腾网获悉惠科股份有限公司申请的专利掩膜版结构及电路走线的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119805850B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411998514.0，技术领域涉及：G03F1/54；该发明授权掩膜版结构及电路走线的制造方法是由毛晗;徐培设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩膜版结构及电路走线的制造方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩膜版结构及电路走线的制造方法，掩膜版结构包括遮光部及透光部，遮光部包括：相邻且间隔设置的第一转移部和第二转移部以及隔离部，第一转移部和第二转移部分别用于形成不同的电路走线，其中，第一转移部和第二转移部之间的间距小于等于3微米；隔离部设置于第一转移部和第二转移部之间，且沿第一转移部和第二转移部的长度方向设置；第一转移部和第二转移部均与隔离部间隔设置；其中，隔离部的宽度为0.5微米～1微米。本申请将间隔设置的两个转移部之间设置隔离部，从而使得曝光制程中光强分布变得更加集中，曝光效果更好，避免相邻电路走线之间距离太近而发生短路。提高了驱动电路矩阵的良率，优化显示质量。

本发明授权掩膜版结构及电路走线的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版结构，其特征在于，包括遮光部及透光部，所述遮光部包括：相邻且间隔设置的第一转移部和第二转移部，所述第一转移部和所述第二转移部分别用于形成不同的电路走线； 其中，所述第一转移部和所述第二转移部之间的间距小于等于3微米； 隔离部，设置于所述第一转移部和所述第二转移部之间，且沿所述第一转移部和所述第二转移部的长度方向设置； 所述第一转移部和所述第二转移部均与所述隔离部间隔设置； 其中，所述隔离部的宽度为0.5微米～1微米； 所述隔离部包括： 本体部； 位于所述本体部靠近所述第一转移部的一条边上的多个间隔设置的第一凸起，和位于所述本体部靠近所述第二转移部的另一条边上的多个间隔设置的第二凸起；其中，所述隔离部具有所述第一凸起和所述第二凸起时，所述第一凸起与所述第二凸起在所述第一转移部和所述第二转移部的宽度方向错位设置，或，所述第一凸起与所述第二凸起在所述第一转移部和所述第二转移部的宽度方向交替且部分重叠设置。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人惠科股份有限公司，其通讯地址为：518101 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层, 6栋七层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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