衢州博来纳润电子材料有限公司;上海映智研磨材料有限公司兰幽优获国家专利权
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龙图腾网获悉衢州博来纳润电子材料有限公司;上海映智研磨材料有限公司申请的专利一种含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119799165B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411937848.7,技术领域涉及:C09G1/02;该发明授权一种含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液及其制备方法和应用是由兰幽优设计研发完成,并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明涉及材料加工技术领域,特别是一种含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液及其制备方法和应用。本发明所述含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液,包括按质量百分比计的如下组分:复合硅溶胶磨料1%‑20%、分散剂0.01%‑1%、氧化剂0.1%‑10%、辅助氧化剂1%‑20%、pH调节剂0.001%‑0.1%,其余为去离子水;所述复合硅溶胶磨料包括至少两种粒径差在50nm以上的硅溶胶。本发明采用不同粒径的硅溶胶制备不规则复合磨料,与各种助剂配合提高化学氧化和机械摩擦的双重作用,能够增强碳化硅抛光液的机械摩擦点和耐磨力,同时抛光过程不易造成晶圆表面划痕以及损伤层,表面粗糙度低。
本发明授权一种含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种含复合硅溶胶磨料的碳化硅抛光液,其特征在于,包括按质量百分比计的如下组分:复合硅溶胶磨料1%-20%、分散剂0.01%-1%、氧化剂0.1%-10%、辅助氧化剂1%-20%、pH调节剂0.001%-0.1%,其余为去离子水;所述碳化硅抛光液的pH为6.0-7.0;所述分散剂选自六偏磷酸钠;所述氧化剂选自偏钒酸钠;所述辅助氧化剂选自过氧化氢;以复合硅溶胶磨料总质量计,所述复合硅溶胶磨料由30%-88%的粒径为80nm的硅溶胶和12%~70%的粒径为130nm的硅溶胶组成;所述分散剂在所述碳化硅抛光液中的质量占比为0.1%;或,以复合硅溶胶磨料总质量计,所述复合硅溶胶磨料由2%-25%的粒径为15nm的硅溶胶、30%-75%的粒径为80nm的硅溶胶和12%-63%的粒径为130nm的硅溶胶组成;所述分散剂在所述碳化硅抛光液中的质量占比为0.5%。
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