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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利射频回路调整系统，调整方法和半导体器件的工艺机台获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119626882B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411813476.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权射频回路调整系统，调整方法和半导体器件的工艺机台是由王佳航;张赛谦;郭东;冯家玉设计研发完成，并于2024-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本射频回路调整系统，调整方法和半导体器件的工艺机台在说明书摘要公布了：本发明公开了一种射频回路调整系统、调整方法和半导体器件的工艺机台。调整系统包括：第一射频发射器和第二射频发射器，分别向第一反应腔内提供第一射频电流值，向第二反应腔内提供第二射频电流值；电流检测装置，采集第一射频电流值和第二射频电流值；控制器被配置为：基于第一射频电流值和第二射频电流值，获得两者的射频电流比例；将射频电流比例代入第一拟合公式和第二拟合公式，获得第二射频电流的相位同步补偿值；提供目标射频电流；以及基于目标射频电流和相位同步补偿值，调节第一射频电流值和第二射频电流值，以使两个反应腔内的薄膜沉积速率一致。本发明能够减小机台腔室间的串扰，保持各腔室内成膜速率一致，减小工艺误差。

本发明授权射频回路调整系统，调整方法和半导体器件的工艺机台在权利要求书中公布了：1.一种射频回路调整系统，其特征在于，包括： 第一射频发生器和第二射频发生器，分别用于向第一反应腔内提供第一射频电流值，向第二反应腔内提供第二射频电流值； 电流检测装置，用于采集所述第一射频电流值和所述第二射频电流值； 控制器，被配置为：基于所述第一射频电流值和所述第二射频电流值，获得第一射频电流和第二射频电流的射频电流比例；将所述射频电流比例代入第一拟合公式和第二拟合公式，获得所述第二射频电流的相位同步补偿值，其中，所述第一拟合公式指示所述第一射频电流的相位补偿值与所述第一射频电流值的比例关系及其偏移补偿，所述第二拟合公式指示所述第二射频电流的相位补偿值与所述第二射频电流值的比例关系及其偏移补偿；经由所述第一射频发生器，提供目标射频电流；将所述第二射频电流与所述目标射频电流之间的相位同步补偿值赋给所述第二射频发生器；同步调节所述第一射频电流值和所述第二射频电流值，以使所述第一射频电流值和所述第二射频电流值趋于一致；以及响应于所述第一射频电流值和所述第二射频电流值到达一致，所述第一反应腔和所述第二反应腔内的薄膜沉积速率一致。

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