盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司张山获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司申请的专利硅片托举环、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119506846B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311073184.X，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权硅片托举环、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法是由张山;金京俊;王晖;谢素兰;陈宇设计研发完成，并于2023-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本硅片托举环、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅片托举环、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法。硅片托举环可装设于薄膜沉积腔室内，薄膜沉积腔室内设有用于承载硅片进行薄膜沉积的加热台，硅片托举环具有可伸缩内径；在薄膜沉积期间，硅片托举环被配置为：可伸缩内径扩张至大于硅片直径和加热台直径的第一内径，并不接触硅片和加热台；在托举硅片期间，硅片托举环被配置为：第一内径收缩至小于硅片直径的第二内径，并被移动至硅片的底部，以托举硅片。本发明通过硅片托举环使硅片在腔体内进行多次旋转、多次沉积，实现了硅片薄膜沉积厚度均匀、生产效率高的效果。
本发明授权硅片托举环、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法在权利要求书中公布了：1.一种硅片托举环，所述硅片托举环可装设于薄膜沉积腔室内，所述薄膜沉积腔室内设有用于承载硅片进行薄膜沉积的加热台，其特征在于， 所述硅片托举环具有可伸缩内径； 在薄膜沉积期间，所述硅片托举环被配置为：所述可伸缩内径扩张至大于硅片直径和加热台直径的第一内径，并不接触所述硅片和所述加热台； 在托举硅片期间，所述硅片托举环被配置为：所述第一内径收缩至小于所述硅片直径的第二内径，并被移动至所述硅片的底部，以托举所述硅片。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励