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龙图腾网获悉深圳晶泰科技有限公司申请的专利静置工作站及静置系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119492881B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311051099.3，技术领域涉及：G01N35/10；该发明授权静置工作站及静置系统是由何世远;莫耀辉;刘建青设计研发完成，并于2023-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本静置工作站及静置系统在说明书摘要公布了：本申请涉及一种静置工作站及静置系统。该静置工作站包括底座及分别设于所述底座上的样品静置模块、视觉检测模块、样品交互模块和机械手；所述样品交互模块用于与外界进行静置实验前后样品的交互，所述样品盛放于样品容器中；所述样品静置模块用于对样品进行静置实验；所述视觉检测模块用于采集静置实验后的样品容器的侧面图像和或底部图像，以进行结晶检测；所述机械手用于在所述样品交互模块、所述样品静置模块和所述视觉检测模块之间转移样品。本申请提供的方案，能够提高静置实验的自动化程度。

本发明授权静置工作站及静置系统在权利要求书中公布了：1.一种静置工作站，其特征在于，包括： 底座及分别设于所述底座上的样品静置模块、视觉检测模块、样品交互模块和机械手； 所述样品交互模块用于与外界进行静置实验前后样品的交互，所述样品盛放于样品容器中； 所述样品静置模块用于对样品进行静置实验； 所述视觉检测模块用于采集静置实验后的样品容器的侧面图像和或底部图像，以进行结晶检测； 所述机械手用于在所述样品交互模块、所述样品静置模块和所述视觉检测模块之间转移样品； 所述样品静置模块包括温控静置模块，所述温控静置模块用于对样品进行低温静置； 所述温控静置模块对样品进行低温静置时，所述静置工作站还包括设于所述底座上的容器表面擦拭装置，所述容器表面擦拭装置包括： 本体，所述本体内设有容腔，所述本体的一端设有开口，所述本体还设有进气孔，所述容腔分别与所述开口和所述进气孔相连通； 第一擦拭块，所述第一擦拭块位于所述容腔内，所述第一擦拭块设有插孔，所述插孔的一端与所述开口相连通，所述插孔用于插入样品容器，且在所述样品容器插入所述插孔时，所述插孔的内壁与所述样品容器的表面抵接并产生弹性变形； 输气机构，所述输气机构连通气源与所述进气孔，所述输气机构用于在所述第一擦拭块除去样品容器上的水雾或霜后向所述第一擦拭块输送干燥气体。

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