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龙图腾网获悉苏州佑伦真空设备科技有限公司申请的专利一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119144937B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411659101.X，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置在说明书摘要公布了：本发明提出一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置，包括工艺镀膜腔体，工艺镀膜腔体的一侧设有过渡腔体，工艺镀膜腔体的相邻过渡腔体一侧还设有晶圆或者遮板进出口，工艺镀膜腔体的底部设有工作气体输入通道，过渡腔体与工艺镀膜腔体连通，工艺镀膜腔体内设有旋转遮蔽机构和顶升机构，当需要进行工艺镀膜腔体的清洁时，旋转机构将遮板旋转至工作气体输入通道上部，用于遮挡工作气体输入通道，防止在清洗的过程中，靶材或者气体材质落入工作气体输入通道，当进行工艺镀膜时，旋转机构将遮板旋转至过渡腔体，以防止遮板影响工作气体的输入，造成溅射镀膜不均匀，当需要更换遮板通过升降装置的顶升爪将遮板顶起后输出晶圆或者遮板进出口自动更换。

本发明授权一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置在权利要求书中公布了：1.一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置，包括工艺镀膜腔体10，其特征在于：所述工艺镀膜腔体10的一侧设有过渡腔体20，所述工艺镀膜腔体10的相邻过渡腔体20一侧还设有晶圆或者遮板60进出口，所述工艺镀膜腔体10的底部设有工作气体输入通道30，所述过渡腔体20与所述工艺镀膜腔体10连通，所述工艺镀膜腔体10内设有旋转遮蔽机构40和顶升机构100，所述旋转遮蔽机构40包括遮板60、承托板70和旋转机构41，所述遮板60与承托板70卡接，所述遮板60为圆盘型结构，所述圆盘型结构的下表面外圆凸出的环形限位凸台61，所述承托板70的上表面设有多个限位柱71，所述限位柱71围设形成的圆的外径正好与环形限位凸台61的内径匹配，所述多个限位柱71的外侧与所述环形限位凸台61的内壁接触，从而使得所述承托板70的转动时，所述遮板60与承托板70为相对静止状态，所述承托板70的一侧下部设有旋转机构41，所述旋转机构41包括磁流体42以及磁流体42内部套接的旋转轴44、连杆46和气缸48，所述旋转轴44的一端通过承托板安装立柱90与承托板70锁接，另一端通过第一连杆轴夹块45与连杆46的一端转动连接，所述连杆46的另一端通过第二连杆轴夹块47与所述气缸48的气缸轴49连接，所述磁流体42的本体与所述工艺镀膜腔体10的外壳底部锁接，通过气缸48带动磁流体42的旋转轴44转动带动承托板70转动，通过旋转机构41使得承托盘转动，从而使得所述承托板70运载所述遮板60，所述承托板70为异型结构，所述承托板70包括主承载板72和向外延伸的第一承托爪73和第二承托爪74，所述第一承托爪73与第二承托爪74与主承载板72一体成型，所述第一承托爪73与第二承托爪74与主承载板72的连接处设有避位，所述顶升机构100包括升降装置101和顶升环102，所述升降装置101与顶升环102的下部连接，所述顶升环102位于所述承托板70的下部且顶升环102上间隔设置的多个顶升爪103，所述顶升爪103能够穿过避位并做升降运动，当需要进行工艺镀膜腔体10的清洁时，旋转机构41将遮板60旋转至工作气体输入通道30上部，用于遮挡工作气体输入通道30，防止在清洗的过程中，靶材或者气体材质落入至工作气体输入通道30，造成工作气体输入通道30的污染，所述工作气体输入通道30的顶部连接晶圆承载盘，所述晶圆承载盘上设有多个通气孔31，工作气体输入通道30连通通气孔31，当需要进行工艺镀膜腔体10的清洁时所述遮板60遮盖于通气孔31上方，当进行工艺镀膜时，旋转机构41将遮板60旋转至过渡腔体20，以防止遮板60影响工作气体输入通道30的工作气体的输入，造成溅射镀膜的不均匀，当需要更换遮板60，则通过所述升降装置101的顶升爪103将遮板60顶起后输出晶圆或者遮板60进出口自动更换。

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