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龙图腾网获悉西安交通大学申请的专利基于插层技术的Ti3C2Tx MXene/CNTs及其原位制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117430115B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311357564.6，技术领域涉及：H01M4/36；该发明授权基于插层技术的Ti3C2Tx MXene/CNTs及其原位制备方法和用途是由王玲;延卫;胡妙棱设计研发完成，并于2023-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于插层技术的Ti3C2Tx MXene/CNTs及其原位制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明提供了基于插层技术的Ti3C2TxMXeneCNTs及其原位制备方法和用途，用以解决现有Ti3C2TxMXeneCNTs的制备方法存在制备时需分散CNTs、CNTs与Ti3C2TxMXene之间交互作用差，CNTs只在分散的片层上生长，不能在层间生长，或者层间的CNTs密度较低，且尺寸不均匀的技术问题。该制备方法步骤包括：步骤1、制备Ti3C2TxMXene；步骤2、将Ti3C2TxMXene分散到含有NH4+的无机盐水溶液中搅拌，离心水洗后收集沉淀物，得到插层的Ti3C2TxMXene；步骤3、将插层的Ti3C2TxMXene加入到含铁、钴或镍的无机盐溶液中，搅拌获得反应液；对反应液进行固液分离，收集沉淀物，沉淀物烘干后获得含铁、钴或镍的插层的Ti3C2TxMXene；惰性氛围下，将所得插层的Ti3C2TxMXene与碳源进行热处理，得到Ti3C2TxMXeneCNTs。CNTs原位生长在片层上及相邻片层之间，生长致密且尺寸均匀。

本发明授权基于插层技术的Ti3C2Tx MXene/CNTs及其原位制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.基于插层技术的Ti3C2TxMXeneCNTs原位制备方法，所述基于插层技术的Ti3C2TxMXeneCNTs由片层Ti3C2TxMXene和CNTs构成，其中CNTs原位生长在片层Ti3C2TxMXene上及相邻片层Ti3C2TxMXene之间，且CNTs为顶端生长模式；所述Ti3C2TxMXeneCNTs是采用含有NH4+的无机盐进行插层，使催化剂铁、钴或镍进入层间，通过外加碳源生长CNTs得到； 其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、制备Ti3C2TxMXene；包括以下步骤： 步骤1.1、配置含氟的溶液； 含氟的溶液为氢氟酸溶液、氟化锂与盐酸混合液、氟化铵溶液、氟化氢铵溶液或氟化氢钠溶液；其中，氟离子的浓度为2-22.5molL； 步骤1.2、将Ti3AlC2加入所得含氟的溶液中，搅拌获得反应液；具体为：将Ti3AlC2加入所得含氟的溶液中，Ti3AlC2的质量与含氟的溶液体积比为0.01-0.5gmL，搅拌3-48h获得反应液； 步骤1.3、对步骤1.2的反应液进行离心，并清洗至中性，收集沉淀物，得到Ti3C2TxMxene；具体为：以1000-8000转分钟的速度，对步骤1.2的反应液进行离心1-30min，并用水或醇或任意比的醇水混合物清洗至中性，收集沉淀物，得到Ti3C2TxMXene； 步骤2、将所得Ti3C2TxMXene分散到含有NH4+的无机盐水溶液中搅拌，离心水洗后收集沉淀物，得到插层的Ti3C2TxMXene；具体为： 将所得Ti3C2TxMXene分散到含有NH4+的无机盐水溶液中搅拌12-48h，NH4+的浓度为1%-5%，以1000-8000转分钟的速度离心1-10min，水洗后收集沉淀物，得到插层的Ti3C2TxMXene；含有NH4+的无机盐水溶液为氯化铵、硫酸铵、碳酸铵、硝酸铵或磷酸铵水溶液； 步骤3、制备Ti3C2TxMXeneCNTs 步骤3.1、将所得插层的Ti3C2TxMXene加入到含铁、钴或镍的无机盐溶液中，搅拌获得反应液；具体为： 将所得插层的Ti3C2TxMXene加入到含铁、钴或镍的硝酸盐、氯化盐或硫酸盐溶液中，搅拌2-12h获得反应液； 步骤3.2、对步骤3.1的反应液进行固液分离，收集沉淀物，沉淀物烘干后获得含铁、钴或镍的插层的Ti3C2TxMXene；烘干的温度为40-120℃； 步骤3.3、在惰性氛围下，将步骤3.2中插层的Ti3C2TxMXene与碳源进行热处理，得到Ti3C2TxMXeneCNTs； 碳源与步骤3.2中插层的Ti3C2TxMXene的质量比为5:1-100:1；碳源为三聚氰胺、双氰胺、甲烷或乙炔；热处理温度为600-1000℃，热处理时间为0.5-6h。

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