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龙图腾网获悉拓荆科技股份有限公司申请的专利薄膜沉积的辅助装置、薄膜沉积设备及排出物的处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116875959B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310848601.7，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权薄膜沉积的辅助装置、薄膜沉积设备及排出物的处理方法是由张阁;高鹏飞设计研发完成，并于2023-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本薄膜沉积的辅助装置、薄膜沉积设备及排出物的处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种薄膜沉积的辅助装置、薄膜沉积设备以及一种薄膜沉积排出物的处理方法。辅助装置包括：第一阀门，与反应腔室连接，用以调整反应腔室内的气压；以及捕集部，设置于反应腔室和该第一阀门之间，用于收集在反应腔内进行一次薄膜沉积反应完成后的反应腔室中未反应完的一次气液态排出物，并使其在捕集部内进行二次薄膜沉积反应；以及结构，设置于捕集部内，用于过滤进行二次薄膜沉积反应后的二次气液态排出物，以排出干净的气体。通过上述薄膜沉积的辅助装置结构简单，并能有效避免从反应腔室排出的气液态物质在阀门内部进行沉积堵塞阀门，从而延长阀门的生命周期，降低设备故障率，提高机台的运行时间，减少维护成本。

本发明授权薄膜沉积的辅助装置、薄膜沉积设备及排出物的处理方法在权利要求书中公布了：1.一种薄膜沉积的辅助装置，其特征在于，包括： 第一阀门，与反应腔室连接，用以调整所述反应腔室内的气压；以及 捕集部，设置于所述反应腔室和所述第一阀门之间，用于收集在所述反应腔室内进行一次薄膜沉积反应完成后的所述反应腔室中未反应完的一次气液态排出物，并使其在所述捕集部内进行二次薄膜沉积反应，其中，所述一次气液态排出物包括金属源和或反应物；以及 滤芯结构，设置于所述捕集部内，用于过滤进行二次薄膜沉积反应后的二次气液态排出物，以排出干净的气体； 温控部件，设于所述捕集部的外侧，并延伸到所述反应腔室下方的多个下游组件，所述捕集部内的所述一次气液态排出物为所述金属源时，经由所述温控部件以使所述捕集部的温度被控制到第一温度范围，使所述金属源热分解，或所述一次气液态排出物为所述金属源或所述反应物时，所述捕集部的温度被控制到第二温度范围，使所述金属源或所述反应物冷凝，或所述一次气液态排出物为所述金属源和所述反应物时，所述捕集部的温度被控制到第三温度范围，使所述金属源和所述反应物进行所述二次薄膜沉积反应；以及 吹扫支路，设于所述捕集部和所述第一阀门之间，以使外部的吹扫气体经由所述吹扫支路吹扫所述第一阀门，其中，所述吹扫支路上包括第二阀门和或流量控制器，以控制所述吹扫气体的流量。

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