万华化学集团电子材料有限公司刘相宝获国家专利权
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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司申请的专利一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法、缓冲层及含其的抛光垫和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116787323B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210264570.6，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法、缓冲层及含其的抛光垫和应用是由刘相宝;田骐源;王凯设计研发完成，并于2022-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法、缓冲层及含其的抛光垫和应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法，包括以下步骤：a将聚氨酯树脂、添加剂溶解在溶剂中配制成浆料；b将浆料以一定厚度均匀涂布在无纺布上，并在第一凝固浴、第二凝固浴中分步固化成型；c将无纺布分离并水洗烘干得到缓冲层。本发明还提供了缓冲层及含其的抛光垫在化学机械抛光中的应用，可提高抛光垫在抛光时的表面平坦度。
本发明授权一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法、缓冲层及含其的抛光垫和应用在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： a将聚氨酯树脂、添加剂溶解在溶剂中配制成浆料；所述聚氨酯树脂为溶剂型聚氨酯树脂，所述溶剂型聚氨酯树脂100％模数为3～10MPa； b将浆料以0.30～0.48mm厚度均匀涂布在无纺布上并在第一凝固浴、第二凝固浴中分步固化成型；c将无纺布分离并水洗、烘干得到缓冲层； 其中，步骤b中所述无纺布透气率为1.50～2.00cccm2sec；所述第一凝固浴、第二凝固浴为N，N-二甲基甲酰胺与水的混合物；所述第一凝固浴中N，N-二甲基甲酰胺所占质量比为5％～10％，第二凝固浴中N，N-二甲基甲酰胺所占质量比为20％～40％；在第一凝固浴中固化成型时间为10～15min，在第二凝固浴中固化成型时间为20～40min。
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