浙江大学陈一宁获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利一个基于改进的UNet模型的晶圆SEM图缺陷分割方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116342522B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310281398.X,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权一个基于改进的UNet模型的晶圆SEM图缺陷分割方法是由陈一宁;乔驿博;高大为设计研发完成,并于2023-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一个基于改进的UNet模型的晶圆SEM图缺陷分割方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一个基于改进的UNet模型的晶圆SEM图缺陷分割方法,其中提出了一种改进的UNet模型,编码器特征提取部分采用ResNet以充分提取特征,中间模块融合了注意力机制,提出了残差注意力掩膜块,以应对复杂的缺陷形状布局。利用本发明可以实现晶圆缺陷形貌SEM图的缺陷分割的良好效果,缩短根因分析的时间,以便于通过及时调整工艺来最终提高良率。
本发明授权一个基于改进的UNet模型的晶圆SEM图缺陷分割方法在权利要求书中公布了:1.一个基于改进的UNet模型的晶圆SEM图缺陷分割方法,其特征在于,具体包括如下步骤: S1、收集晶圆SEM图像数据,对所收集的晶圆SEM图像数据集进行数据划分,得到训练集和测试集; S2、对步骤S1所得的训练集进行数据增强与预处理; S3、构建改进的UNet模型,得到RA-UNet模型;所述RA-UNet模型包括编码器、中间注意力模块和解码器; 所述编码器用于采用ResNet提取缺陷SEM图像的特征,当输入和输出的特征映射通道数一致时,采用恒等映射直接将输入与输出连接;当通道数不一致时,无法实现直接相加,此时采用卷积残差块对输入与输出进行连接; 中间注意力模块中,先使用1×1的卷积,将注意力支路的特征通道数降为1,再利用卷积提取信息,得到特征图中位置信息的Maskmap,最后将Maskmap中的注意力系数作用于特征图,即与原特征图相乘,消除不重要的信息,得到约束增强后的新特征,增强缺陷区域的信息表达,抑制无关的背景区域的信息表达; 解码器中,用上采样进行图像恢复,图像每恢复一倍就与编码器中相同大小的特征通道做通道拼接操作,能够使整个网络提取的特征更加精细;对特征拼接后的新的特征图进行VGG卷积操作,继续反卷积恢复一倍分辨率;多次操作后,图像分辨率恢复到初始分辨率,最后压缩通道数至1,得到每个像素为缺陷的概率,对每个像素进行缺陷与非缺陷预测,即进行缺陷分割; S4、利用经过步骤S2处理的训练集对步骤S3构建的RA-UNet模型进行训练; S5、用步骤S1中所得的测试集测试步骤S4训练所得的RA-UNet模型,并用图像分割评价指标对RA-UNet模型进行评价; S6、利用最终所得的RA-UNet模型,输入待检测的晶圆SEM图像,实现晶圆SEM图像缺陷分割。
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