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龙图腾网获悉万华化学集团股份有限公司;万华化学(宁波)有限公司申请的专利对异氰酸酯生产工艺中的副产HCl进行循环利用的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116216645B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111511587.9，技术领域涉及：C01B7/07；该发明授权对异氰酸酯生产工艺中的副产HCl进行循环利用的方法是由文放;王振有;赵东科;张宏科;吴雪峰;马海洋;周宇杰;黄荐;徐丹设计研发完成，并于2021-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本对异氰酸酯生产工艺中的副产HCl进行循环利用的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种对异氰酸酯生产工艺中的副产HCl进行循环利用的方法，基于本发明的方法，可以有效改善压缩机组堵塞、氧化反应器催化剂中毒失活、产物氯气中夹带固体导致设备堵塞等问题，从而利于改善循环利用工艺的运行稳定性。该方法包括对副产HCl进行净化，将净化后的副产HCl经压缩机提压、冷却器降温和低温吸收塔吸收后，送至氧化反应器中于催化剂存在下经氧化反应制备氯气，其特征在于，所述对副产HCl进行净化包括脱除副产HCl中的胺类杂质，所述胺类杂质为含有NH2‑基团且分子量小于200的物质。

本发明授权对异氰酸酯生产工艺中的副产HCl进行循环利用的方法在权利要求书中公布了：1.一种对异氰酸酯生产工艺中的副产HCl进行循环利用的方法，该方法包括对副产HCl进行净化，将净化后的副产HCl经压缩机提压、冷却器降温和低温吸收塔吸收后，送至氧化反应器中于催化剂存在下经氧化反应制备氯气，其特征在于，对副产HCl进行所述净化包括采用吸胺剂吸附脱除副产HCl中的胺类杂质和脱除所述副产HCl中的溶剂，所述胺类杂质为含有NH2-基团且分子量小于200的物质；并且，所述净化为净化所述副产HCl至所述副产HCl中的胺类杂质含量＜100ppm； 所述吸胺剂的制备步骤包括： 1将苯乙烯、二苯乙烯、液体石蜡和引发剂加入到氯化钠水溶液中进行悬浮聚合，得到共聚物珠粒；其中，苯乙烯与二苯乙烯的质量比为3:1-9:1；苯乙烯与液体石蜡的质量比为4:1-20:1；苯乙烯与引发剂的质量比为70:1-150:1； 2将步骤1得到的共聚物珠粒进行纯化处理； 3将步骤2处理得到的共聚物珠粒与磺酸化试剂进行磺化反应，将所得产物用水洗涤备用； 对所述副产HCl进行循环利用的方法具体包括如下步骤： 将所述副产HCl送入装填有所述吸胺剂的酸性树脂吸附塔中以吸附脱除所述副产HCl中的胺类杂质；所述酸性树脂塔操作压力为1.1-3.0barg，操作温度为-20℃至40℃； 将经所述酸性树脂吸附塔处理后的HCl送入溶剂吸附塔中脱除溶剂，所述溶剂吸附塔操作压力为1.1-3.0barg，操作温度为-20℃至40℃； 经所述溶剂吸附塔处理后的HCl通过压缩机提压和冷却器降温后，送入低温吸收塔吸收，之后再送入氧化反应器在催化剂作用下进行氧化反应制得氯气。

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