株式会社荏原制作所社本光弘获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社荏原制作所申请的专利镀敷辅助系统、镀敷辅助装置以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113139363B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011579486.0，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权镀敷辅助系统、镀敷辅助装置以及存储介质是由社本光弘;下山正;中田勉;青山英治;藤木雅之设计研发完成，并于2020-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本镀敷辅助系统、镀敷辅助装置以及存储介质在说明书摘要公布了：本发明为一种镀敷辅助系统、镀敷辅助装置以及存储介质，容易决定用于提高通过镀敷处理所获得的面内均匀性的实施条件。镀敷辅助系统包括：模拟器362，根据与基板的电解镀敷处理相关的设想条件，预测形成在基板的镀敷膜的面内均匀性值；数值分析数据存储部370，关于多个设想条件，存储将各设想条件与面内均匀性值建立对应的数值分析数据；回归分析部250，通过基于数值分析数据的回归分析，推算将面内均匀性值作为目标变量，将设想条件的变量作为说明变量的模型；以及实施条件探索部252，使用经推算的模型，探索作为与在镀敷对象基板的电解镀敷处理中形成的镀敷膜的面内均匀性相关的设想条件的推荐值的实施条件。
本发明授权镀敷辅助系统、镀敷辅助装置以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种镀敷辅助系统，其特征在于，包括： 模拟器，根据与基板的电解镀敷处理相关的设想条件，预测形成在所述基板的镀敷膜的模拟面内均匀性值； 存储部，关于多个设想条件，存储数值分析数据，所述数值分析数据是将由所述模拟器所预测的所述模拟面内均匀性值与确定各设想条件的一个或多个变量的值建立对应； 分析部，通过基于所述数值分析数据的回归分析，推算模型，所述模型是将所述模拟面内均匀性值作为目标变量，将所述一个或多个变量作为说明变量； 受理部，受理所述一个或多个变量的值的指定作为指定值；以及 探索部，将以所述指定值为前提的多种候补条件应用于经推算的所述模型来算出多个推测面内均匀性值，基于所述多个推测面内均匀性值探索作为与在镀敷对象基板的电解镀敷处理中形成的镀敷膜的面内均匀性相关的所述设想条件的推荐值的实施条件。
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