东莞高伟光学电子有限公司彭伟军获国家专利权
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龙图腾网获悉东莞高伟光学电子有限公司申请的专利一种真空吸附固定平台结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223728758U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520014837.5，技术领域涉及：H01L21/683；该实用新型一种真空吸附固定平台结构是由彭伟军设计研发完成，并于2025-01-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空吸附固定平台结构在说明书摘要公布了：本实用新型涉及芯片贴片制造设备领域，且公开了一种真空吸附固定平台结构，包括真空连接平台以及设置在真空连接平台上端的产品吸附平台，真空连接平台上开设有若干组真空连接通道，产品吸附平台上开设有若干组产品吸附孔，真空连接通道与产品吸附孔一一对应设置；节流隔板，设置在真空连接平台以及产品吸附平台之间，节流隔板上设置有与产品吸附孔一一对应设置的节流孔，本实用新型通过在真空连接平台与产品吸附平台间增加节流隔板，在产品未放满的情况下，不需使用假体覆盖吸附孔，就能达到稳定吸附的效果，便于后续使用。
本实用新型一种真空吸附固定平台结构在权利要求书中公布了：1.一种真空吸附固定平台结构，其特征在于：包括： 真空连接平台1以及设置在所述真空连接平台1上端的产品吸附平台2，所述真空连接平台1上开设有若干组真空连接通道11，所述产品吸附平台2上开设有若干组产品吸附孔21，所述真空连接通道11与所述产品吸附孔21一一对应设置； 节流隔板3，设置在所述真空连接平台1以及产品吸附平台2之间，所述节流隔板3上设置有与所述产品吸附孔21一一对应设置的节流孔31。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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