武汉普迪真空科技有限公司周焱文获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉普迪真空科技有限公司申请的专利一种连续上料的真空镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223723212U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520213298.8，技术领域涉及：C23C14/56；该实用新型一种连续上料的真空镀膜设备是由周焱文设计研发完成，并于2025-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种连续上料的真空镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型提出了一种连续上料的真空镀膜设备，包括镀膜腔室、样品库腔室和上下料装置，所述镀膜腔室与样品库腔室密封连通；所述样品库腔室内存放有若干样品，所述上下料装置用于将样品库腔室内的样品移入镀膜腔室进行镀膜，并将镀膜后的样品移入样品库腔室内存放。本实用新型通过样品库腔室存放多个样品，并利用上下料装置将样品库腔室内待镀膜的样品转移至镀膜腔室进行镀膜，并将镀膜后的样品转移至样品库腔室暂存，然后继续将样品库腔室内待镀膜的样品转移至镀膜腔室进行镀膜，可实现真空镀膜设备的连续上料，且上下料过程中无需开启箱门，不会破坏镀膜腔室内部的真空环境，可极大提升连续镀膜效率，且降低了多次抽真空所需的能耗。
本实用新型一种连续上料的真空镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种连续上料的真空镀膜设备，其特征在于，包括镀膜腔室1、样品库腔室2和上下料装置，所述镀膜腔室1与样品库腔室2密封连通；所述样品库腔室2内存放有若干样品，所述上下料装置用于将样品库腔室2内的样品移入镀膜腔室1进行镀膜，并将镀膜后的样品移入样品库腔室2内存放。
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