三星显示有限公司金在植获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利沉积用掩模获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223723195U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423174900.6，技术领域涉及：C23C14/04；该实用新型沉积用掩模是由金在植;成宇镛设计研发完成，并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积用掩模在说明书摘要公布了：提供了沉积用掩模。沉积用掩模包括：掩模框架，具有单元开口部；以及膜，包括布置在所述掩模框架上的无机物层和布置在所述无机物层上的金属层。所述膜具有与所述单元开口部连通的多个像素开口部，所述像素开口部中的每个包括贯通所述金属层的第一开口部和贯通所述无机物层的第二开口部。所述第二开口部具有朝向所述单元开口部增大的宽度。
本实用新型沉积用掩模在权利要求书中公布了：1.一种沉积用掩模，其特征在于，包括： 掩模框架，具有单元开口部；以及 膜，包括布置在所述掩模框架上的无机物层和布置在所述无机物层上的金属层， 所述膜具有与所述单元开口部连通的多个像素开口部， 所述像素开口部中的每个包括贯通所述金属层的第一开口部和贯通所述无机物层的第二开口部， 所述第二开口部具有朝向所述单元开口部增大的宽度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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