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龙图腾网获悉东旭科技集团有限公司申请的专利硅片抛光装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223719186U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423018444.6，技术领域涉及：B24B29/02；该实用新型硅片抛光装置是由曹海勇;胡恒广;闫冬成;张占永设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本硅片抛光装置在说明书摘要公布了：本公开提供一种硅片抛光装置，包括：工作台；转台，转台安装于工作台的台面，且转台能够自转；多个研磨台，多个研磨台沿转台的转动方向分布在其上表面，且研磨台能够自转；粗磨抛光组件；和细磨抛光组件；其中，研磨台上能够放置硅片，研磨台能够在转台的带动下依次经过粗磨抛光组件和细磨抛光组件，并且研磨台能够带动硅片相对粗磨抛光组件和细磨抛光组件转动以进行抛光作业。上述技术方案，利用转台和研磨台的配合，使得粗磨抛光组件和细磨抛光组件先后对硅片进行粗磨和细磨，分步抛光，有效减少了抛光过程对硅片造成的损伤。

本实用新型硅片抛光装置在权利要求书中公布了：1.一种硅片抛光装置，其特征在于，包括： 工作台1； 转台2，所述转台2安装于所述工作台1的台面，且所述转台2能够自转； 多个研磨台3，多个所述研磨台3沿所述转台2的转动方向分布在其上表面，且所述研磨台3能够自转； 粗磨抛光组件4；和 细磨抛光组件5； 其中，所述研磨台3上能够放置硅片6，所述研磨台3能够在所述转台2的带动下依次经过所述粗磨抛光组件4和所述细磨抛光组件5，并且所述研磨台3能够带动所述硅片6相对所述粗磨抛光组件4和所述细磨抛光组件5转动以进行抛光作业； 所述粗磨抛光组件4包括粗磨轮401和第一伸缩件402，所述第一伸缩件402的一端连接于所述工作台1，另一端安装有所述粗磨轮401；所述细磨抛光组件5包括细磨轮501和第二伸缩件502，所述第二伸缩件502的一端连接于所述工作台1，另一端安装有所述细磨轮501； 所述第一伸缩件402和所述第二伸缩件502与所述工作台1的连接处安装有压力传感器； 所述转台2包括固定安装于所述工作台1的第一转轴201和能够相对所述第一转轴201转动的转动盘202； 所述研磨台3包括固定安装于所述转动盘202的第二转轴301和能够相对所述第二转轴301转动的研磨盘302； 所述研磨台3包括设置于所述研磨盘302上表面的真空通孔303和位于所述第二转轴301且一端连通所述真空通孔303的通道304，所述通道304的另一端能够连接真空发生设备； 所述工作台1上设有保护罩101，所述转台2和所述研磨台3位于所述保护罩101的第一侧，所述粗磨抛光组件4和所述细磨抛光组件5位于所述保护罩101的第二侧，所述保护罩101上设有与所述粗磨抛光组件4和所述细磨抛光组件5位置对应的两个抛光孔102。

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