买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利基于连续渐变实现基膜一体强激光薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119596428B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411682425.5，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权基于连续渐变实现基膜一体强激光薄膜是由王胭脂;贾琳;邵建达;冯宇康;陈宇;陆叶盛设计研发完成，并于2024-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于连续渐变实现基膜一体强激光薄膜在说明书摘要公布了：本发明属于高功率激光薄膜技术领域，一种基于折射率连续渐变实现基膜一体化高阈值高稳定激光薄膜，薄膜结构为：SL1L2L3A，其中S代表基底，L1代表基底与L2之间的过渡层，L2代表折射率连续渐变的功能实现层，L3代表L2与入射介质之间的阻抗适配层，A代表入射介质。本发明提供的基于折射率连续渐变实现基膜一体强激光薄膜，对基底缺陷平坦化处理，L1与L2层采用双区共溅制备方法，实现由基底到入射介质之间的折射率连续渐变，达到不同光学功能需求。上述一体化薄膜有效解决了基底与膜层之间及膜层内部不同层之间因热膨胀系数差异导致的应力不匹配问题，消除了材料间的突变界面，避免了传统薄膜离散界面的跃变特性，提高了薄膜的激光损伤阈值和稳定性。

本发明授权基于连续渐变实现基膜一体强激光薄膜在权利要求书中公布了：1.一种基于连续渐变实现基膜一体的强激光薄膜，其特征在于，结构为SL1L2L3A，所述强激光薄膜从下往上的结构依次为基底S、过渡层L1、功能实现层L2、阻抗匹配层L3和入射介质A， 所述基底S折射率为n0，所述入射介质A折射率为n1； 所述功能实现层L2由折射率为nH的高折射率材料、折射率为nL的低折射率材料混合构成，起始折射率为ns,终止折射率ne，所述功能实现层L2的折射率与L2层膜厚x的关系表示为以下形式： 其中nx代表折射率分布作为膜厚x的函数，na是高折射率nH和低折射率材料nL的平均折射率，np是L2层的峰值和谷值之间的折射率差异，fx代表折射率调制函数，所述折射率调制函数fx为高斯或线性函数，表示为以下形式： 其中，k和b是系数，N是单个正弦波周期的厚度，λ代表中心波长； 所述过渡层L1，其折射率分布以n0为起点，至L2层的起始折射率ns为终点呈单调线性分布，其中n0ns，阻抗适配层L3，其折射率分布以L2层的终止折射率ne为起点，至n1为终点呈单调线性分布，其中n1ne； 所述的强激光薄膜，折射率分布从基底S到功能实现层L2再到入射介质A始终连续渐变。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院上海光学精密机械研究所，其通讯地址为：201800 上海市嘉定区清河路390号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。