上海御微半导体技术有限公司江周周获国家专利权
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龙图腾网获悉上海御微半导体技术有限公司申请的专利轮廓背光切换装置及检测设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119511609B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411661732.5,技术领域涉及:G03B15/06;该发明授权轮廓背光切换装置及检测设备是由江周周;尹光才;孙良峰;郑教增;孙刚设计研发完成,并于2024-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本轮廓背光切换装置及检测设备在说明书摘要公布了:本发明属于半导体技术领域,公开了一种轮廓背光切换装置及检测设备。该轮廓背光切换装置包括底盘、叶片和驱动组件,底盘上设置有多个定位柱,多个定位柱沿底盘的周向均匀分布,底盘的散射率大于待测件的散射率;叶片置于底盘上,多个叶片和多个定位柱一一对应设置,叶片上设置有与定位柱配合的定位孔,叶片的反射率大于待测件的反射率;驱动组件包括转盘和能驱动转盘转动的驱动件,转盘位于叶片的上方,叶片和转盘滑动连接,驱动件驱动转盘正转或反转时,叶片沿转盘滑动且绕对应的定位柱正旋或反旋,使得叶片旋出或缩回。该轮廓背光切换装置结构紧凑,提高了检测时轮廓成像的连续性和完整性。
本发明授权轮廓背光切换装置及检测设备在权利要求书中公布了:1.一种轮廓背光切换装置,其特征在于,包括: 底盘100,所述底盘100上设置有多个定位柱130,多个所述定位柱130沿所述底盘100的周向均匀分布,所述底盘100的散射率大于待测件的散射率; 叶片200,置于所述底盘100上,所述叶片200设置有多个,多个所述叶片200和多个所述定位柱130一一对应设置,所述叶片200上设置有与所述定位柱130配合的定位孔211,所述叶片200的反射率大于所述待测件的反射率; 驱动组件,包括转盘310和能驱动所述转盘310转动的驱动件320,所述驱动件320安装于外部工作台,所述转盘310位于所述叶片200的上方,所述转盘310的外径小于所述底盘100的外径,所述叶片200和所述转盘310滑动连接,所述驱动件320驱动所述转盘310正转或反转时,所述叶片200沿所述转盘310滑动且绕对应的所述定位柱130正旋或反旋,使得所述叶片200旋出或缩回,旋出时,多个所述叶片200的外缘凸出至所述转盘310外侧并形成圆形结构,缩回时,多个所述叶片200的外缘退至所述转盘310内侧。
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