深圳市鲲腾易必目科技有限责任公司王文豪获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市鲲腾易必目科技有限责任公司申请的专利电子束光刻微纳结构加工方法、设备、防伪标记及反射光栅获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119395952B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411841784.0,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权电子束光刻微纳结构加工方法、设备、防伪标记及反射光栅是由王文豪设计研发完成,并于2024-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本电子束光刻微纳结构加工方法、设备、防伪标记及反射光栅在说明书摘要公布了:本发明涉及一种电子束光刻微纳结构加工方法、设备、防伪标记及反射光栅,所述方法包括:制备亚克力基底;获取设计结构;根据所述设计结构,采用电子束照射所述亚克力基底,以获取带有所述设计结构的微纳结构。本发明对亚克力材质进行微纳结构加工,简化了电子束光刻微纳结构加工的过程,可以降低材料成本和人工成本。
本发明授权电子束光刻微纳结构加工方法、设备、防伪标记及反射光栅在权利要求书中公布了:1.一种电子束光刻微纳结构加工方法,其特征在于,所述方法包括: 制备亚克力基底; 获取设计结构; 根据所述设计结构,采用电子束照射所述亚克力基底,以获取带有所述设计结构的微纳结构; 所述制备亚克力基底,包括: 在亚克力底材的照射面上镀金属层,以制备所述亚克力基底,其中,所述亚克力底材包括照射面和底面,所述亚克力底材的照射面和底面相对设置。
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