电子科技大学李廷帅获国家专利权
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龙图腾网获悉电子科技大学申请的专利一种针对皮秒激光打靶产生复合复杂辐射环境的复合屏蔽体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118870779B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410906251.X，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权一种针对皮秒激光打靶产生复合复杂辐射环境的复合屏蔽体是由李廷帅;牛爱慧;周维民;王传珂;易涛设计研发完成，并于2024-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种针对皮秒激光打靶产生复合复杂辐射环境的复合屏蔽体在说明书摘要公布了：本发明涉及一种针对皮秒激光打靶产生复合复杂辐射环境的复合屏蔽体，属于电磁脉冲的屏蔽与防护材料技术领域。包括自外而内依次设置的沉淀硬化不锈钢层、第一透明玻璃层、多孔碳负载铜钴双金属屏蔽层、第二透明玻璃层、多孔碳负载铜金属屏蔽层和第三透明玻璃层；各层之间协同作用，实现对皮秒激光与固体靶产生的复杂电磁辐射的屏蔽防护，其中包括对带电粒子如电子，光子如伽马射线等粒子的有效屏蔽吸收。该复合屏蔽体具有较强的环境适应性，且能够对皮秒千焦级大型激光装置靶室产生的电磁脉冲进行有效的屏蔽，复合屏蔽效能可达50％以上，可应用于器件保护，激光防护等多种领域。
本发明授权一种针对皮秒激光打靶产生复合复杂辐射环境的复合屏蔽体在权利要求书中公布了：1.一种针对皮秒激光打靶产生复合复杂辐射环境的复合屏蔽体，其特征在于：包括自外而内依次设置的沉淀硬化不锈钢层、第一透明玻璃层、多孔碳负载铜钴双金属屏蔽层、第二透明玻璃层、多孔碳负载铜金属屏蔽层和第三透明玻璃层； 其中，所述多孔碳负载铜钴双金属屏蔽层由多孔碳负载铜钴双金属屏蔽材料与热熔石蜡混合后涂覆在第一透明玻璃层与第二透明玻璃层后形成； 所述多孔碳负载铜金属屏蔽层由多孔碳负载铜金属屏蔽层材料与热熔石蜡混合后涂覆在第二透明玻璃层与第三透明玻璃层后形成； 其中，沉淀硬化不锈钢层、第一透明玻璃层、多孔碳负载铜钴双金属屏蔽层、第二透明玻璃层、多孔碳负载铜金属屏蔽层和第三透明玻璃层的厚度比为5~6:1~2:3~4:1~2:3~4:1~2。
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