中国科学院大连化学物理研究所任吉中获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院大连化学物理研究所申请的专利一种聚酰亚胺混合基质膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118743932B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410979711.1，技术领域涉及：B01D71/64；该发明授权一种聚酰亚胺混合基质膜及其制备方法与应用是由任吉中;牟庆迪;盛鲁杰设计研发完成，并于2024-07-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种聚酰亚胺混合基质膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本申请公开了一种聚酰亚胺混合基质膜及其制备方法与应用，所述聚酰亚胺混合基质膜包括聚酰亚胺和多孔填料；所述多孔填料选自碳纳米管、碳分子筛、中空二氧化硅、水滑石、金属有机框架、共价有机框架、氢键有机框架中的至少一种。本申请采用液‑液共混法制备聚酰亚胺混合基质膜，通过特定温度范围高温退火的方法提高混合基质膜气体分离性能。当退火温度略高于玻璃化转变温度时，退火过程可以明显的增加聚酰亚胺混合基质膜的气体渗透性和选择性。这种方法简单实用，在气体分离方面具有较为广泛的应用前景。
本发明授权一种聚酰亚胺混合基质膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种聚酰亚胺混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 1将聚酰亚胺和溶剂A混合，形成聚酰亚胺溶液； 2将在溶剂B中保存的多孔填料与溶剂A进行溶剂交换后，再与溶剂A混合，超声分散，获得共混液； 3将所述共混液加入所述聚酰亚胺溶液，获得铸膜液； 4将所述铸膜液置于玻璃板上进行刮膜，静置I，脱膜后静置II，退火处理，获得所述聚酰亚胺混合基质膜； 其中，退火处理的温度T满足：Tg-100＜T＜Tg+100，Tg为膜材料的玻璃化转变温度； 所述聚酰亚胺混合基质膜包括聚酰亚胺和多孔填料； 所述聚酰亚胺为玻璃态聚酰亚胺； 所述聚酰亚胺选自式I-1、式I-2、式I-3所述结构中的至少一种； 其中，0≤x≤1,0≤y≤1,0≤z≤1； 所述R选自式a~e所述结构中的至少一种； 所述多孔填料选自碳纳米管、碳分子筛、中空二氧化硅、水滑石、金属有机框架、共价有机框架、氢键有机框架中的至少一种。
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