安徽金田高新材料股份有限公司齐先锋获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽金田高新材料股份有限公司申请的专利一种低光泽度消光转移膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118721917B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410752093.7，技术领域涉及：B32B27/32；该发明授权一种低光泽度消光转移膜及其制备方法是由齐先锋;王兆中;汪金保;方保国;余健;苏康顺;王健设计研发完成，并于2024-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低光泽度消光转移膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种低光泽度消光转移膜及其制备方法，涉及消光转移膜技术领域。一种低光泽度消光转移膜，包括上表层、芯层、下表层。所述的上表层包括以下重量份的原料:30‑40份聚丙烯、10‑20份改性聚乙烯、2‑5份消光剂、0.05‑0.2份抗氧剂。所述的芯层包括以下重量份的原料:80‑90份聚烯烃、1‑2份抗静电剂、1‑2份爽滑剂。所述的下表层包括以下重量份的原料:40‑60份聚丙烯、1‑5份二氧化硅。本发明提供的消光转移膜具有优异的拉伸强度、剥离强度以及较低的光泽度。
本发明授权一种低光泽度消光转移膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低光泽度消光转移膜，其特征在于，包括上表层、芯层、下表层，所述的上表层包括以下重量份的原料:30-40份聚丙烯、10-20份改性聚乙烯、2-5份消光剂、0.05-0.2份抗氧剂； 所述的消光剂的制备方法，包括以下步骤:将硅酸钠、水、稀硝酸混合均匀后，加入氢氧化钠，得到预混物，将预混物进行浸泡处理后得到混合物，向混合物中加入二氧化硅、甲基三甲氧基硅烷，混合均匀、干燥，得到消光剂；所述的二氧化硅包括0.1-1μm二氧化硅、2-5μm二氧化硅。
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