中自科技股份有限公司王瑞芳获国家专利权
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龙图腾网获悉中自科技股份有限公司申请的专利一种高热稳定性贵金属催化剂及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118594530B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410655947.X，技术领域涉及：B01J23/44；该发明授权一种高热稳定性贵金属催化剂及其制备方法是由王瑞芳;龚国恒;刘志敏;淡宜;江龙;黄云;金姝;孙睿;罗甜甜设计研发完成，并于2024-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高热稳定性贵金属催化剂及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及催化剂制备技术领域，具体公开了一种高热稳定性贵金属催化剂及其制备方法，催化剂包括催化剂基体和涂层，涂层包括催化材料、分散于催化材料表面的贵金属活性组分和包覆在催化材料表面的多孔保护层，多孔保护层为二氧化硅，多孔保护层的厚度为2‑50nm，多孔保护层的孔径在2‑10nm。在催化剂使用过程中或经历高温焙烧时，二氧化硅的多孔保护层可隔离贵金属，可有效控制老化后贵金属纳米粒子的大小，防止贵金属在大区域内迁移团聚，提高贵金属催化剂的热稳定性，保证了催化剂耐久性能；也能有效地排斥尾气中的SO2，防止SO2与贵金属纳米粒子或催化材料结合导致硫中毒降低性能，进一步提升催化剂的催化性能和抗硫性能。
本发明授权一种高热稳定性贵金属催化剂及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高热稳定性贵金属催化剂，所述催化剂包括催化剂基体和涂覆在所述催化剂基体上的涂层，其特征在于，所述涂层包括催化材料、分散于催化材料表面的贵金属活性组分和包覆在催化材料表面的多孔保护层，所述多孔保护层为二氧化硅层，所述多孔保护层的厚度为2-50nm，所述多孔保护层的孔径在2-10nm。
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