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龙图腾网获悉万华化学集团股份有限公司申请的专利一种异氰酸酯及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117623986B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311454550.6，技术领域涉及：C07C263/10；该发明授权一种异氰酸酯及其制备方法与应用是由王振有;文放;赵东科;董笑程;张金强;耿文杰;张宏科设计研发完成，并于2023-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种异氰酸酯及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种异氰酸酯及其制备方法与应用，该方法包括如下步骤：1将胺类化合物与光气在溶剂中进行光气化反应，得到含异氰酸酯的第一混合液；2将所述第一混合液进行脱除氯化氢和光气的处理，得到第二混合液；3将所述第二混合液进行第一脱除溶剂处理，得到异氰酸酯粗品；4将所述异氰酸酯粗品进行分离处理，得到聚合异氰酸酯产品和第三混合液；所述第三混合液包括所述溶剂和纯异氰酸酯；以及5将所述第三混合液进行第二脱除溶剂处理，得到纯异氰酸酯产品。本发明一种实施方式的异氰酸酯的制备方法，通过对多个步骤中的工艺参数进行调整，可使特征指数处于特定范围内，从而提升了所制得的异氰酸酯产品的收率和色度指标。

本发明授权一种异氰酸酯及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种异氰酸酯的制备方法，包括如下步骤： 1将胺类化合物与光气在溶剂中进行光气化反应，得到含异氰酸酯的第一混合液； 2将所述第一混合液进行脱除氯化氢和光气的处理，得到第二混合液； 3将所述第二混合液进行第一脱除溶剂处理，得到异氰酸酯粗品； 4将所述异氰酸酯粗品进行分离处理，得到聚合异氰酸酯产品和第三混合液；所述第三混合液包括所述溶剂和纯异氰酸酯；以及 5将所述第三混合液进行第二脱除溶剂处理，得到纯异氰酸酯产品； 其中，步骤1中，所述光气与所述胺类化合物的质量比值a为1～10；所述光气化反应的最高温度为b℃，b为100～170；所述光气化反应体系的物料在反应容器中的停留时间为c小时，c为0.5～12； 步骤2的处理温度为d℃，d为100～200，处理时间为e小时，e为0.01～4； 所述溶剂在所述第二混合液中的质量含量f为20～90％；所述溶剂在所述异氰酸酯粗品中的质量含量g为0.01～30％； 其中，A1、A2均表示特征指数，无量纲； A1＝0.164*a2+0.054*b+3.89*c+0.0007*d2+8.25*e 若A1＜50，则A2为： A2＝2.71*f2+99.16*g2+0.1228 若A1≥50，则A2为： A2＝4.08*f2+195.42*g2+0.2632 A1为25～80；且A1＜50，A2为0.5～6；A1≥50，A2为0.8～7。

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