苏州威迈芯材半导体有限公司刘斌获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉苏州威迈芯材半导体有限公司申请的专利一种高剥离强度底部抗反射涂层树脂的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117586681B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311453013.X，技术领域涉及：C09D143/04；该发明授权一种高剥离强度底部抗反射涂层树脂的制备方法是由刘斌;吴绍伟;任丹丹;张凌设计研发完成，并于2023-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高剥离强度底部抗反射涂层树脂的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高剥离强度底部抗反射涂层树脂，该树脂包含化学式1所示的结构式：其中，式1中R1所表示的结构为三甲基硅基、二甲基硅基、叔丁基二甲基硅基、三甲基硅氧基、叔丁基二甲基硅氧基中的一种或多种；其重均分子量在2000‑10万，PDI≤2.0。本发明通过用含硅单体与甲基丙烯酸缩水甘油酯、9‑甲基丙烯酸蒽酯进行多元共聚，制备出的树脂具有高的耐热性、高的剥离强度，可应用于半导体制造领域底部抗反射涂层中。
本发明授权一种高剥离强度底部抗反射涂层树脂的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高剥离强度底部抗反射涂层树脂，其特征在于，所述树脂具有式1所示的结构： ; 其中，式1中R1所表示的结构为三甲基硅基、二甲基硅基、叔丁基二甲基硅基、三甲基硅氧基、叔丁基二甲基硅氧基中的一种或多种；其重均分子量在2000-10万，PDI≤2.0；所述树脂中x结构单体所占总摩尔比例≥50％，y结构单体所占总摩尔比例为10％-30％，z结构单体所占总摩尔比例≤40％。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人苏州威迈芯材半导体有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹西路9号7栋南侧302、402单元；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励