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龙图腾网获悉北京工业大学申请的专利一种高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117567039B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311511046.5，技术领域涉及：C03C17/00；该发明授权一种高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法是由李永利;牛雷;陈树群;王金淑;吴俊书;马树腾设计研发完成，并于2023-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法在说明书摘要公布了：一种具有高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法，属于功能薄膜技术领域。包括如下步骤：使用碱催化法制备SiO2溶胶；将SiO2溶胶与四氢呋喃混合，依次加入硅烷偶联剂、道康宁光学胶溶液，分别在透明有机玻璃和硅酸盐玻璃上镀膜，室温干燥固化；将含薄膜的玻璃与全氟硅烷共同置于密闭容器中，在一定温度、时间下使全氟硅烷蒸到薄膜表面进行氟化处理，得到兼顾高透光率、低雾度、超疏水、结合牢固的SiO2薄膜。多方面策略的巧妙协调是实现本发明目的的重要因素。本发明提供的制备方法原料廉价、无需高温热处理、操作工艺简便，适用于大尺寸异形件镀膜，可应用在各种透明基底上，维持室内外环境中的长时间高透视场景。

本发明授权一种高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高透光率、低雾度、超疏水SiO2薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1将正硅酸四乙酯加入到含有去离子水、氨水的乙醇溶液中，在40-70℃下水浴回流处理4-12h，得到SiO2溶胶；其中，正硅酸四乙酯∶氨水∶乙醇∶去离子水的体积比为3-12ml∶1-4ml∶40-110ml∶2-8ml； SiO2溶胶中SiO2的粒径为10nm、20nm、30nm、40nm中的任意两种进行级配； 2向上述SiO2溶胶中分别加入四氢呋喃、硅烷偶联剂、道康宁光学胶溶液，室温下搅拌18-32h得到改性SiO2溶胶；其中硅烷偶联剂选自γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的一种，改性的SiO2溶胶中各物质的用量关系为SiO2溶胶∶四氢呋喃∶硅烷偶联剂∶道康宁光学胶溶液的体积比＝10-20：10-20：0.05-0.1：0.4-0.6； 将康道宁光学胶由主剂和副剂构成，主剂为聚二甲基硅氧烷，副剂为交联剂；交联剂为混合物，含有二甲基甲基氢、乙烯基封端二甲基聚硅氧烷、乙烯基MQ树脂混合物和四甲基四乙烯基环四硅氧烷；主剂与副剂混合后加入四氢呋喃，超声溶解得到道康宁光学胶溶液； 3将玻璃基底依次在去离子水、乙醇溶液中超声1-2min，取出吹干备用；所述的玻璃为无机玻璃或有机玻璃； 4利用上述改性SiO2溶胶，使用浸渍提拉法制备薄膜，提拉速度500-2000μms，提拉次数为2-8次，浸渍时间1-3min，成膜后在室温下固化18-32h； 5将含薄膜的基底与全氟硅烷置于密闭容器中，在一定温度下，使全氟硅烷蒸到薄膜表面进行表面氟化处理，得到所述高透光率、低雾度、超疏水SiO2薄膜。

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