苏州立琻半导体有限公司;材料科学姑苏实验室梁舰获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州立琻半导体有限公司;材料科学姑苏实验室申请的专利紫外光固化方法、系统、美甲装置及增材打印装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117301528B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311532036.X，技术领域涉及：B29C64/386；该发明授权紫外光固化方法、系统、美甲装置及增材打印装置是由梁舰;张正杰;魏永强;沈雁伟;王智伟;王鹏飞;许奇明设计研发完成，并于2023-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本紫外光固化方法、系统、美甲装置及增材打印装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种紫外光固化方法、系统、美甲装置及增材打印装置，该方法包括：获取紫外投影系统照射范围内待照射物体的待照射区域的形态信息；基于形态信息，计算待照射区域中各个区块到紫外投影系统的距离；基于待照射区域，生成与待照射区域匹配的照射图案；基于照射图案，紫外投影系统形成与照射图案匹配的光照区域；基于形态信息和待照射区域中各个区块到紫外投影系统的距离，调节紫外投影系统中各个位置的发光点的发光强度。本发明提供的紫外光固化方法、系统及美甲装置，通过实时获取待照射物体的形态信息，并基于此信息生成与待照射区域匹配的照射图案，进而实现对待固化表面的紫外光照射区域的精确照射。
本发明授权紫外光固化方法、系统、美甲装置及增材打印装置在权利要求书中公布了：1.一种紫外光固化方法，其特征在于，包括： 实时获取紫外微像素发光阵列投影系统照射范围内待照射物体的待照射区域的形态信息； 基于所述形态信息，计算所述待照射区域中各个区块到所述紫外微像素发光阵列投影系统的距离； 基于所述待照射区域，生成与所述待照射区域匹配的照射图案； 基于所述照射图案，所述紫外微像素发光阵列投影系统形成与所述照射图案匹配的光照区域，以照射所述待照射区域； 基于所述形态信息和所述待照射区域中各个区块到所述紫外微像素发光阵列投影系统的距离，调节所述紫外微像素发光阵列投影系统中各个位置的发光点的发光强度，以使所述待照射区域中各个区块所接收到的光照强度的差值在预设范围内； 基于所述待照射区域的移动速度，预测所述待照射区域下一时刻的位置； 基于所述预测的位置，调整所述紫外微像素发光阵列投影系统的发光点位，以使所述光照区域的照射位置与所述预测的位置对应。
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