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哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)陈宏涛获国家专利权

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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)申请的专利三维多孔泡沫铜的制备方法、封装焊片及半导体封装方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117206530B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311137506.2,技术领域涉及:B22F7/08;该发明授权三维多孔泡沫铜的制备方法、封装焊片及半导体封装方法是由陈宏涛;王锦涛;王建强;王奉祎设计研发完成,并于2023-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。

三维多孔泡沫铜的制备方法、封装焊片及半导体封装方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种三维多孔泡沫铜的制备方法、封装焊片及半导体封装方法,所述三维多孔泡沫铜的制备方法包括如下步骤:步骤S1,制备泡沫铜;步骤S2,将将泡沫铜在含氧的气氛中加热,使其孔壁表面生成氧化层,得到氧化后的泡沫铜;步骤S3,压缩氧化后的泡沫铜,成致密片状泡沫铜;步骤S4,去除氧化层,留下孔道,得到三维多孔结构的泡沫铜。采用本发明的技术方案得到的泡沫铜的孔壁表面具有若干孔道,杨氏模量低,可解决焊层界面处热膨胀系数失配问题,极大的提高器件在服役过程中经受热循环时的可靠性;降低焊层的杨氏模量,缓解焊层脆硬性,减轻热疲劳,同时能够抵御器件工作时频繁的热冲击,提供可靠的连接强度以抵御物理冲击。

本发明授权三维多孔泡沫铜的制备方法、封装焊片及半导体封装方法在权利要求书中公布了:1.一种三维多孔泡沫铜的制备方法,其特征在于:包括如下步骤: 步骤S1,制备泡沫铜; 步骤S2,将泡沫铜在含氧的气氛中加热,使其孔壁表面生成氧化层,得到氧化后的泡沫铜;加热温度为300~600℃; 步骤S3,采用轧制或者热压方式,压缩氧化后的泡沫铜,成致密片状泡沫铜; 步骤S4,采用腐蚀液去去除氧化层,留下孔道,得到三维多孔结构的泡沫铜;所述腐蚀液为在质量百分比为15%-38%的浓氨水中加入氯化铵得到,氯化铵的质量百分比为10%-30%;腐蚀时间为60-120min。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院),其通讯地址为:518000 广东省深圳市南山区桃源街道深圳大学城哈尔滨工业大学校区;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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